1. 金刚石涂层设备
一、热丝CVD法
热丝CVD法是将氢气和甲烷、乙炔等碳氢化合物按一定比例混合通入反应腔体内，流经电加热至2000℃以上的热丝，在其表面和附近被高温分解成原子氢和多种碳氢基团，随后发生复杂的吸附与解吸附反应，之后在合适温度(700~ 1000℃)的基底表面成核、生长，形成金刚石涂层。
1、优点
热丝法的优点在于其制备成本低、装置简单、易实现大面积沉积、工艺控制性好等，因此热丝CVD是目前应用范围居于首位的金刚石涂层制备技术。
2、缺点
热丝法的缺点是合成速度较慢，约为1～2μm/h，气体离化率较低，金刚石膜的生长质量不是很高，且容易带来金属污染。
二、微波等离子体CVD
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是将一定直径的石英管或不锈钢谐振腔作为反应腔，微波从波导管经过，进入反应腔内，会产生一个反应很强的交变电场，气体在交变电场的激励下被激发形成等离子体，氢气和甲烷受到激发形成具有很高活性的化学活性基团，扩散至合适的基底表面后，沉积出金刚石涂层。
1、优点
微波等离子体是一种无电极放电的等离子体激发方式，即它产生的等离子体很纯净，可避免电极和反应器壁带来的污染，微波等离子体能量密度及电子温度相当高，可得到很高的原子氢浓度，而且微波放电特别稳定，因此该法沉积获得的金刚石涂层质量相对较高。
2、缺点
但是该沉积法突出的缺点是制备效率低，设备价格昂贵，制备成本偏高，不易扩大MPCVD金刚石膜的沉积面积。
三、直流电弧等离子体喷射CVD
该制备法是在电路正负两极间通入一定的直流电压，在正负两极间流动的气体被放电击穿，从而点燃电弧。电弧将气体迅速加热至特别高的温度，气体急剧膨胀，从喷口高速喷射出高温的等离子体射流。基底必须通过水来强制冷却，一般放在等离子体炬的下方。通常都将氢气、氩气和甲烷混合作为沉积的原料气体。其中氢气和甲烷是金刚石涂层沉积常用的原料气体，氩气则是用来点燃电弧并维持电弧的放电。
1、优点
这是一种典型的高速沉积方法，保持着迄今为止的快速沉积速率930 μm/h。等离子体的离化很充分，能提供非常高的原子氢浓度，因此能够兼顾沉积速率和金刚石涂层的质量，被认为是工业化应用前景非常光明的金刚石膜制备技术。
2、缺点
但是该制备法对于气体和电力的消耗量非常大，导致制备成本高，需通过气体循环和减少电力消耗降低成本，才能在市场上更具竞争力。
2. 金刚石喷涂加工
砂轮材料的主要配方原料是：
1、磨料（刚玉、碳化硅、金刚石、CBN）
2、结合剂（石粉、陶土、树脂、橡胶、金属合金粉等）
做法如下方：
陶瓷结合剂砂轮：混料-压制-烘干-烧成-加工-检验。
树脂和金属结合剂砂轮：混料-热压制-加工-喷漆-检验。
电镀砂轮：混料-电镀-加工-检验。
3. 类金刚石涂层的工艺
是类金刚石涂层，是一种非晶碳膜。
ndlc涂层是良好的表面改性涂层，具有高硬度，常用于易损件表面，用来提升其使用寿命；DLC涂层对酸碱的防护能力强，具有很大的应用潜力；DLC的低摩擦系数，可对产品表面进行润滑，可以较好地使用在不适合用液体润滑的环境，比如高温和高真空的环境下；此外，DLC涂层还具备良好的化学惰性，可以提升产品的抗氧化性和稳定性；同时还具备绝缘性、生物兼容性等。
4. 金刚石涂层设备生产厂家
区别在于特点不同，威狮1949省油，2.3T柴油引擎类金刚石涂层技术可降低摩擦15%，可变排量机油泵、1986驾驶安全可靠。谢谢采纳
5. 金刚石涂层公司
含硅的，德国CemeCon北京赛利涂层技术有阴公司的 HSN2 HRC 50-70硬度可以达到，在硬的涂层就是金刚石的了，但是需要根据你的基体材料及被切的材料，来确认你涂什么样的涂层是最佳的，不是硬的就是好的。
6. 金刚石涂料
优点:1、金刚石漆可选择自己喜欢的颜色，施工后表层密实度很高，很少起尘，关键还很容易清洁。
2、随着市面上金刚石漆产品品牌和种类的增加，耐磨和抗冲击的品质都有很大的改善，同时预算成本也在不断降低，这样一来就让人感觉是物美价廉了。
缺点:金刚石漆虽然颜色多样，但实用性不强，使用不了一段时间就会有褪色问题出现，且视觉饱和度方面也没有那么好。
虽然上述提到金刚石漆不易起尘，但要是品质没有那么好，这个问题出现的概率很高，如果对洁净度要求极高的场地确实不建议选择金刚石漆。
7. 金刚石涂层技术转让
涂层刀具是近20年出现的一种新型刀具，是刀具发展中的一项重要突破，是解决刀具材料中硬度、耐磨与强度、韧性之间矛盾的一个有效措施。涂层刀有4种，即涂层高速钢刀具、涂层硬质合金刀具以及在陶瓷和超硬材料(金刚石或立方氮化硼)刀片上的涂层刀具。但前两种涂层刀具使用最多。在陶瓷和超硬材料刀片上的涂层是硬度较基体低的材料，目的是为了提高刀片表面的断裂韧度(可提高10%以上)，减少刀片的崩刃及破损，扩大应用范围。