1. 国产EUV光刻机有了突破
光刻机中国能制造，但是精度不如国外。 中国科学院成都光机所和四十五所，能制造接近接触式光刻机。 上海微电子装备有限公司能够制造投影式光刻机。在LED、IC后道和平板显示的微米级光刻机都有不少销量。IC前道光刻机分辨力要求较高，目前只能制造百纳米或几十纳米级别光刻机，而国外已经推出13纳米的光刻机了。 核心技术包括投影物镜、精密运动台和精密测量系统等。对于最先进的光刻机，关键的镜片、传感器和电机等依靠进口。
2. 国产euv光刻机最新消息
已完全国产。
经过快20年的攻关，光刻机的集成技术已经完成从0到1，取得了许多重大的突破。
国产90nm光刻机早已商用，DUV浸润式光刻机的主要技术也都攻克了，光源、镜头、双工件台都有了，沉浸式65nm、45nm和28nm的DUV光刻机国产化是迟早的事。而最先进的EUV光刻机（7nm以下）还没有开始整机立项研发，实现仍需要一段时间，但相关研究已经开展。
3. 国产euv光刻机最新
光刻机国产排名第一的是上海微电子。
目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司，既上海微电子，所以上海微电子排名第一。
4. 国产EUV光刻机发展规划
90纳米现在就有，28的马上有，14和7的可能要等几年。
5. 中国唯一一台euv光刻机现状
国内有手机芯片光刻机。
国内不但有手机芯片光刻机，而且还有纯国产的光刻机。全球目前只有四家公司有能力制造光刻机，唯一高端的荷兰阿斯麦尔euv光刻机、日本尼康和佳能的duv光刻机，中国上海微电子的duv光刻机。上海微电子去年只是做的是低端90纳米的光刻机，去年年底28纳米中端duv光刻机通过技术检测和认证，今年应该能量产了。
6. 国产euv光刻机进展
一支由清华大学机械工程系朱煜教授带队的清华大学研发团队，客服重重困难自主研发出了光刻机双工件台，这是中国光刻机再获得的一个重大突破。要知道光刻机制造的过程中，难度最大的就是双工件台的制造，毕竟双工件台是光刻机的两大核心部件之一，就连日本都没研发出来。有了双工件台就可以大大提高生产芯片的速度，这一成果让中国成为了世界上第二个可以生产双工件台的国家。虽然只是一个小小的成就和突破，但是也代表了中国企业发展芯片的决心，同时还显示出我国强大的自主科研能力，这一突破是中国光刻机领域的一小步，也是中国芯的一大步！
7. euv光刻机有中国技术吗
荷兰光刻机参与国是42国，但技术并不是每个国家全部都有的，而且这是针对高端EUV光刻机来说的。
EUV光刻机的技术其实在很多年前就开始研究了，先后一共加入了40多个国家和地区进行技术上的研究，最早开始的是美国。但并不是这些参与国都拥有EUV相关技术，ASML公布的供应商来看，前17大供应商主要集中在欧盟，美国，日本以及台积电，其中美国占了9家，绿岛占了4家，日本占了3家，德国占了一家。技术主要也是这些供应商所有的，其他是提供些资金或其他帮助。
8. EUV光刻机国产
不能，在中国芯片制造被漂亮国“卡脖子”的时候，ASML总裁Peter Wennink曾经在一次科技会议上明确表示，“高端的EUV光刻机永远不可能（被中国）模仿。”
虽然说，皮特老板的话听起来不太顺耳，甚至有些打击我们的积极性和自信心，但是不得不说，人家能说出这一番话来，肯定是有人家的底气的。