1. 光刻镜头行业前景
镜头是将拍摄景物在传感器上成像的器件，相当于相机的“眼睛”，通常由几片透镜组成，光线通过时，镜片们会层层过滤杂光(红外线等)，所以，镜头片数越多，成像就越真实。目前对焦镜头里，都是使用凸透镜和凹透镜的组合，利用光的折射原理，把光导到传感器的成像面上。为了更加镜头解析力与对比度并保证画面质量，给镜头的片数和结构带来了一定的限制，导致镜头的厚度无法做薄，不满足当前设备的轻薄要求。
技术实现要素：
有鉴于此，本发明实施例为解决现有技术中存在的问题而提供一种光刻镜片的制作方法和镜头。
本发明实施例的技术方案是这样实现的：
一方面，本发明实施例提供一种光刻镜片的制作方法，所述方法包括：
在基材的表面上涂覆光刻材料；
利用光刻掩膜板对光刻材料进行刻蚀；其中，所述光刻掩膜板上具有多个具有预设的形状的掩膜图形，在每一所述掩膜图形上不同位置的透光率不同；
对刻蚀后的光刻材料进行固化处理，得到光刻镜片。
另一方面，本发明实施例提供一种镜头，所述镜头至少包括沿物方到镜方共轴设置的第一镜片、第二镜片和第三镜片，其中：
第一镜片用于将入射光线进行聚光；
第二镜片用于将经过所述第一镜片的入射光进行均匀发散，形成平行于轴向的光；
第三镜片用于将经过第二镜片的入射光进行聚光，使得聚光后的光线照射到感光芯片。
本发明实施例提供一种光刻镜片的制作方法和镜头，其中，首先在基材的表面上涂覆光刻材料；利用光刻掩膜板对光刻材料进行刻蚀；其中，所述光刻掩膜板上具有多个具有预设的形状的掩膜图形，在每一所述掩膜图形上不同位置的透光率不同；对刻蚀后的光刻材料进行固化处理，得到光刻镜片；如此，能够利用光刻技术做出具有一个个小槽的光刻镜片，从而利用小槽引导光路，进而能够减少镜头中镜片的片数，降低镜头的高度。
2. 光刻技术目前有哪些发展
用于大规模集成电路生产的主流光刻技术仍是光学光刻技术，下一代光刻技术的主要候选者是极紫外光刻技术、纳米压印技术和无掩模光刻技术。
1. 极紫外光刻技术
极紫外光刻技术一直是最受关注且最有可能达到量产化要求的光刻技术。极紫外光刻技术使用波长为13．5 nm的极紫外光，几乎所有的材料对这个波段的光都是强吸收的，因此极紫外光刻技术只能采用反射投影光学系统。
极紫外光线经过由80层Mo—Si结构多层膜反射镜组成的聚光系统聚光后，照明反射式掩模，经缩小反射投影光学系统，将反射掩模上的图形投影成像在硅片表面的光刻胶
3. 光刻镜头行业前景如何
中科院研发的5纳米超高精度激光光刻加工方法的主要用途是制作光掩模，这是集成电路光刻制造中不可缺少的一个部分，也是限制最小线宽的瓶颈之一。
但是，即便这一技术实现商用化，要突破荷兰ASML(阿斯麦)在光刻机上的垄断，还有很多核心技术需要突破，例如镜头的数值孔径、光源的波长等。
4. 光刻镜头行业前景分析
技术积累。
荷兰的asml是从飞利浦分离出来的，而飞利浦本身的技术实力就非常强悍，所以asml在成立的时候也继承了飞利浦的很多关键技术，这是它发展的一个重要基础。
第二、西方国家技术共享和支持。
光刻机是一个非常复杂的机器，它的技术是非常精尖的，可以说是全球最尖端的设备之一，如此高精尖的一个设备，单凭荷兰一个国家是没法完成的，而荷兰之所以能够拥有高端光刻机的核心技术，离不开西方一些国家的技术支持。
比如目前asml的光源设备是由美国的企业提供，另外ASML的镜头是由德国的蔡司提供的，这些企业在自身的领域就是世界顶尖的水平，比如在光刻机领域拥有专利技术最多的不是asml，而是德国的蔡司。除此之外，包括韩国的三星、海力士等也会跟asml分享一些技术，所以在多个国家的技术共同支持之下，荷兰的ASML才能如此发展壮大。
第三、芯片企业的资金支持和市场支持。
十几年前光刻机市场还是处于三足鼎立的状态，当时除了荷兰的asml之外，包括日本的佳能和尼康也在光刻机市场上占有一席之地，但后来因为日本的尼康和佳能选择了错误的研发路线，导致被asml给赶超了。
而Asml之所以能够从三足鼎立当中突围并实现独家垄断，有一个很重要的原因就是有芯片企业的资金支持和市场支持。比如目前我们所熟悉的一些芯片巨头英特尔、联发科，台积电，三星，海力士都是asml的股东，这些芯片巨头源源不断的给asml提供资金支持。除此之外，因为是asml的股东，所以这些芯片巨头在采购光刻机的时候会优先使用Asml的设备，这也是为什么ASML能够发展壮大的重要原因之一。
总之，荷兰之所以能够掌握光刻机的核心技术，与其说是荷兰厉害，还不如说是全球芯片企业共同努力的结果
5. 光刻机未来市场前景?
前景较好，但是这行业的确很辛苦，为了产出的最大化，设备24h生产不间断（你见过过年都不放假的公司吗？如果没见过我告诉你多数芯片制造/半导体企业就是这样），所以光刻机维修工程师和设备工程师需要24h待命，加班普遍比较多，还会有凌晨的“紧急抢修”。
6. 光刻机发展前景
面板行业未来发展前景很好，在芯片制造的所有设备中，光刻机的成本占比约为24%，而刻蚀机的占比约为20%，这两种设备合计占比为44%。从国内市场来看，刻蚀机尤其是介质刻蚀机，是我国最具优势 的半导体设备领域，也是国产替代占比最高的重要半导体设备之一。目前我国主流设备中，去胶设备、刻蚀设备、热处理设备、清洗设备等的国产化率均已经达到20%以上。
7. 光刻镜头行业前景怎么样
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。
而光学胶是用于胶结透明光学元件（如镜头等）的特种胶粘剂，具有无色透明、光透过率在90%以上、胶结强度良好，可在室温或中温下固化的特点。主要用于光学零件胶合，封固生物切片，磨制地质标本等。
8. 光刻技术未来发展趋势
1995年，华裔科学家周郁（Stephen Chou）教授首次提出纳米压印概念，从此揭开了纳米压印制造技术的研究序幕。纳米压印技术是当今最具前景的纳米制造技术之一，很可能成为未来微纳电子与光电子产业的基础技术。
目前，纳米压印技术在国际半导体蓝图（ITRS）中被列为下一代32nm、22nm和16nm节点光刻技术的代表之一。国内外半导体设备制造商、材料商以及工艺商纷纷开始涉足这一领域，短短25年，已经取得很大进展。