1. 湿法工艺设备
在半导体制造中有两种基本的刻蚀工艺：干法刻蚀和湿法腐蚀。干法刻蚀是把硅片表面曝露于气态中产生的等离子体，等离子体通过光刻胶中开出的窗口，与硅片发生物理或化学反应（或这两种反应），从而去掉曝露的表面材料。干法刻蚀是亚微米尺寸下刻蚀器件的最重要方法。而在湿法腐蚀中，液体化学试剂（如酸、碱和溶剂等）以化学方式去除硅片表面的材料。湿法腐蚀一般只是用在尺寸较大的情况下（大于3微米）。湿法腐蚀仍然用来腐蚀硅片上某些层或用来去除干法刻蚀后的残留物。
基本工艺要求 理想的刻蚀工艺必须具有以下特点：①各向异性刻蚀，即只有垂直刻蚀，没有横向钻蚀。这样才能保证精确地在被刻蚀的薄膜上复制出与抗蚀剂上完全一致的几何图形；②良好的刻蚀选择性，即对作为掩模的抗蚀剂和处于其下的另一层薄膜或材料的刻蚀速率都比被刻蚀薄膜的刻蚀速率小得多，以保证刻蚀过程中抗蚀剂掩蔽的有效性，不致发生因为过刻蚀而损坏薄膜下面的其他材料；③加工批量大，控制容易，成本低，对环境污染少，适用于工业生产。
2. 湿法工艺流程图
干法工艺就是用混合机、包装机等将固态的东西缴在一起，产品的均一性比湿法工艺的差，理化指标没有湿法工艺的稳定。
湿法工艺就比较复杂了，要用的净乳机、均质机、杀菌机、浓缩设备、干燥设备、包装设备，还有其他各种各样的附属设备。湿法工艺也分干-湿混合工艺和湿-湿混合工艺，如果是干-湿混合的话就是液态奶和固态原料混合，湿-湿就是液态奶和液态配方原料混合，婴儿的吸收和消化方面肯定湿-湿工艺更胜一筹
3. 湿法生产线
氢氧化钙生产线主要由破碎机、振动筛、振动给料机、机械装卸料立式环保型石灰窑、螺旋输送机、箱式氧化消化机（化灰机)/回转式消化机、导热油加热滚筒连续干燥机、尾气---- 空气余热换热器、不锈钢洗气塔/PP洗气塔、振动出灰机、斗式提升机等构成。 原料生石灰，由装载机加入料仓中，并由振动加料机均匀加入锷式破碎机中破碎至30－50mm左右，在破碎过程中产生的粉尘由引风机经锷式破碎机上部的除尘罩引至车间外部的脉冲布袋除尘器中除尘，除尘器中的氧化钙粉每周清理一次。 破碎后的生石灰经斗式提升机提升送入位于消化车间消化机上部的石灰料仓中，生石灰经石灰料仓的下部的插板阀，称重给料器均匀送入消化机中（进料量5t/h），同时以灰水比1：3.5的比例向消化机中加水，（流量17.5m3/h），消化机启动时15分钟内可使用热水罐内加热至80℃的热水（热水罐的加热介质为饱和蒸气），当消化机温度已经达到90度以上时，可停止热水罐的热水改用冷水消化（可用环化下水）。进入消化机中可使用生石灰和水在搅拌桨叶高强度搅拌下进行消化反应，水化成Ca(OH)2乳液。大部分残渣由消化机出渣口和振动筛中筛分出(排渣量为1642.6 Kg/h)，残渣被输送机送至车间外的渣池，消化过程中产生的水蒸气由消化机尾部的除尘罩收集排至车间外经水膜除尘器处理后排放，水膜除尘器排水用于消化机尾部洗渣。 经过滤后的粗浆液（约25%）自流进入粗浆池中，由浆泵抽取粗浆池中的浆液送至旋液除渣器，旋液除渣器分离出的不溶性灰渣（120 Kg/h)经振动筛分离后送入车间外渣池。经旋液除渣器处理后的浆液约22%（流量约25m3/h），进入精浆储罐中加水配制Ca(OH)2含量至20%再由泵抽取送至环化塔，流量60m3/h，为更好的满足环化工艺要求，可以对精浆储罐进行加热使之升温至65℃并保温，加热介质为饱和蒸气。
4. 湿法工艺设备干什么的
湿法工艺是制作奶粉的一种工艺；湿法是先将所有成分溶解成液体后按配方成分按不同比例液化再干燥，浓缩之后的液态配方奶在喷雾干燥机里，通过高压喷头碰成雾，与通到干燥机里的热空气混合从而生产奶粉。
湿法是先将配方成分按不同比例液化再干燥，这样会混合的很均匀，干法混合出来的奶粉在速溶性上要差一些，微量元素分配不均匀。
5. 干法工艺湿法工艺
皮革干法湿法的区别是：制作方法不一样，干法是做好聚氨酯涂层后干燥，让溶剂挥发，固化剂反应，达到固化成膜的效果。
湿法是聚氨酯涂层完成后放入水中，用水分子来置换涂层里的DMF，这个置换过程也可以达到涂层固化成膜的效果。这个聚氨酯涂层可以做在布上也可以做在二层皮等皮革上。
6. 湿法工艺流程
湿法无纺布：是将置于水介质中的纤维原料开松成单纤维，同时使不同纤维原料混合，制成纤维悬浮浆，悬浮浆输送到成网机构，纤维在湿态下成网再加固成布。
湿法无纺布工艺流程
(1)制备纺丝原液；
(2)将原液从喷丝孔压出形成细流；
(3)原液细流凝固成初生纤维；
(4)初生纤维卷装或直接进行后处理。