1. 中国唯一生产光刻机的公司
我国早就能制造光刻机了，这和专利限制无关。
目前全球能够制造光刻机的国家有三个，一共四家公司可以制造光刻机，荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。其中唯一能制造高端euv光刻机的只有一家就是荷兰阿斯麦尔，其他三家是duv光刻机。专利限制只是制约的一方面，最大因素是技术问题制约。
2. 中国生产光刻机的厂家
目前国产仅有的光刻机品牌厂家为--上海微电子
上海为微电子成立于2002年，是我国现在仅有的一家光刻机厂家，可以说上海微电子承载了我国在半导体行业所有的压力。
历时近20年的时间，上海微电子已经掌握了先进封装光刻机的技术点，可以说上海微电子现在投入的技术不亚于世界最大光刻机公司ASML的力度。
3. 中国唯一生产光刻机的公司是哪家
中国光刻机目前还无法达到10纳米，目前最高只能到28纳米。
国内唯一能制造光刻机的企业是上海微电子，目前实验机已经达到28纳米精度，如果配合中芯国际的n+1、n+2芯片制造技术，有望能达到制造趋近于7纳米芯片的条件。但该光刻机依然是以193纳米深紫外光为光源的，和荷兰阿斯麦尔的13.5纳米极紫外光光源的euv光刻机还有很大差距。目前还无法得知我国何时能研制出euv极紫外光光源光刻机。
4. 中国首台光刻机是哪个公司生产的
光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备(集团)股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。而且有了一定的科研成果，但是目前我国高端芯片的制造却主要依赖荷兰进口的光刻机。我国光刻机在不断发展但是与国际三巨头尼康佳能（中高端光刻机市场已基本没落）ASML（中高端市场近乎垄断）比差距很大。
光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常少，到最先进的14nm光刻机就只剩下ASML，日本佳能和尼康已经基本放弃第六代EUV光刻机的研发。相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸。
上海微电子装备(集团)股份有限光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域，2018年出货大概在50-60台之间。营业收入未公布，政府是有大量补贴的。处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能最好的是90nm光刻机，制程上的差距就很大，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
2016年11月15日，由长春光机所牵头承担的国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”项目顺利完成验收前现场测试。在长春光机所、成都光电所、上海光机所、中科院微电子所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学等参研单位的共同努力下，历经八年的戮力攻坚，圆满地完成了预定的研究内容与攻关任务，突破了现阶段制约我国极紫外光刻发展的核心光学技术，初步建立了适应于极紫外光刻曝光光学系统研制的加工、检测、镀膜和系统集成平台，为我国光刻技术的可持续发展奠定了坚实的基础。
合肥芯硕半导体有限公司成立与2006年4月,是国内首家半导体直写光刻设备制造商。该公司自主研发的ATD4000,已经实现最高200nm的量产。
无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。
先腾光电成立于2013年4月,已经实现最高200nm的量产,在2014国际半导体设备及材料展览会上,先腾光电亮出了完全自主知识产权的LED光刻机生产技术,震惊四座。
5. 中国唯一一家光刻机公司
中国张江啊不能独立造光刻机。
目前全球能制造光刻机的只有三个国家四家公司，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。其中荷兰阿斯麦尔是唯一能制造高端euv光刻机的公司，并且是四十个国家合作完成的。日本尼康和佳能可以制作22纳米中端光刻机。而我国国内唯一能制作光刻机的只有上海微电子，今年28纳米中端光刻机通过技术检测和认证，预计年底能量产。所以张江无法独立造光刻机。
6. 中国第一家光刻机公司
答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！
7. 中国唯一能生产光刻机的企业
上微光刻机就是上海微电子。
上海微电子是国内唯一一家制造光刻机的企业，是全球四家制造光刻机的企业之一，但上海微电子并没有上市。上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。