1. 中国首台5纳米光刻机
答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！
2. 中国光刻机最新消息
25日，清华大学发布消息称，以该校工程物理系教授唐传祥为首的研究团队研发了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”（SSMB），并完成了首个原理验证实验，该成果发表在世界著名科学杂志《自然》上。SSMB光源未来有望应用于EUV光刻和角分辨光电子能谱学等领域。这是我国在EUV光刻机光源研发方面取得的重大突破。
3. 中国首台5纳米光刻机是谁发明
5nm光刻机只有荷兰的ASML能生产。顶级芯片都是5纳米的，国产目前能做到28纳米。随着芯片产业被越来越多的人们关注，人们对芯片的认识大多都集中在手机厂商们大力宣传的5纳米工艺。而我国的光刻机技术也一直是落后于国际社会的，我们至今都没有研发出5纳米级别的光刻机，大多数国产光刻机只能生产28纳米的。但绝大部分28nm以上的芯片我国都能自产。
4. 中科院研发成功2nm光刻机
差不多了，最小极限1nm
5. 最先进光刻机多少纳米
光刻机是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断，那么全球最先进的光刻机是多少nm的？中国现在又能够做出几nm的芯片呢？
目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了，它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV），是目前全球最顶尖的光刻机设备。
中国目前最先进的光刻机应该是22nm的，它的关键部件可以实现国产化了。但中国已经可以实现14nm芯片的量产了，这是中芯国际取得的一个重大成绩。