1. 目前中国有没有光刻机
我国的光刻机技术仍然处于低端水平，上海微电子的光刻机代表我国光刻机的最高水平，制程工艺为90nm，而ASML的光刻机已经进入5nm的制程工艺，我国的高端光刻机全部依靠进口
2. 现在中国有没有光刻机
目前，中国暂时没有4nm光刻机。但5nm的光刻机生产研发已取得突破性的进展。不久的将来，我国的光刻机技术会得到更好的发展，不仅能生产出4nm芯片，还能生产出更高精度的芯片。科技造就未来，我国用科技提高自身综合实力，打破外国垄断指日可待。芯片和光刻机的共同发展，才能造就更加精彩的科技生活，智能化时代就在不远的未来。
3. 目前中国有没有光刻机技术
22纳米
前不久，中国北斗三号芯片成功突破了22纳米的限制，而上海微电子技术也再次获得突破，成功研发出了22nm的光刻机。从技术角度来讲，虽然我国获得的突破和外国技术相比，还有一定差距，但从整体进程来看，我国半导体行业和外国的差距正在慢慢减小。
4. 中国有没有光刻机的上市公司
a股生产光刻机的上市公司有：
江化微603078：
公司2021年第三季度实现营业总收入2.04亿，同比增长-38.91%；每股收益为0.0639元。2020年度净利润同比增长55%至80%；公司生产的光刻胶配套试剂主要用于下游半导体和平板显示领域，20年上半年，公司光刻胶配套试剂领域的销售收入成长非常明显，实现营业收入1.099亿元，同比增长78%。。
联合光电300691：
联合光电2021年第三季度季报显示，公司实现营收4.17亿，同比增长9.36%；净利润1976万，同比增长60.44%；每股收益为0.0900元。公司具备生产制造光刻机镜头的技术和能力。
5. 中国目前有光刻机吗
答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！
6. 目前中国有没有光刻机发展
首先，我国很早就开始了光刻机的研制，在上世纪70年代，清华大学与中科院合作进行光刻机的研发，在1985年就研制成功了一台g线分步投影光刻机，这比国外同类产品仅仅晚了6年。2002年我国成立了上海微电子装备有限公司(SMEE)，其研发团队主要来自中科院45所，目前为止，这也是我国仅有的一家光刻机研发单位。从今年发展来看，SMEE虽取得了很大成绩，但整体技术水平还是落后于西方发达国家。
光刻机的研制技术难点主要是解决精密度问题，光刻的原理就像在米粒大小的面积上，雕刻纳米级大小的文字，其难度可想而知，所以这需要持续的研发和技术攻关。此外，我国光刻机的研发还面临资金和人才的调整。研发光刻机这种高精尖设备投入大、投资回报时间长，民营企业出于发展目的，很少会主动投入光刻机的研发，所以这需要国家进行投资和组织，从国外发展来看，英特尔、台积电、三星为推进光刻机的研发，都是持续投入巨资，比如三星以38亿欧元购买ASML23%的股份支持其EUV光刻机的研发，可以说是不计成本，也由此奠定了他们在光刻机领域的地位。
与国外相比，我国缺少光刻机相关配套产业，而且由于西方国家的技术封锁，几乎不可能从国外获得技术支持，所以，我国光刻机的发展只能来源于自主研发，而光刻机研发人员的培养难度较大、培养周期长、人才流失严重，这些都大大制约了我国光刻机的发展。
其实总体来看，发展光刻机取决于国家的决心，过去，我们可以很容易买到国外芯片，而且自主研发投入大、风险高，这造成了我们国家很多人产生了“造不如买”的观点，但随着中美贸易战的加剧，美国开始对中国进行技术防范，比如“中芯事件”，对华为的各种制裁，这些事件终于使国内企业醒悟过来，不发展光刻机，中国永远把自身的命脉放在别人手里，国家工业将永远徘徊低端产业，所以，发展光刻机已经刻不容缓