1. 荷兰光刻机最小多少纳米
全世界精确度最高的光刻机是13.5纳米的。
全球唯一能制造高端光刻机的是荷兰阿斯麦尔EUV光刻机，该光刻机是目前唯一采用13.5纳米极紫外光光源的光刻机。全球能制造光刻机的国家有，日本尼康和佳能，中国的上海微电子，再就是高端光刻机制造商荷兰阿斯麦尔。中国和日本的光刻机属于193纳米光源的深紫外光DUV光刻机，最小制程大约能达到7纳米，而荷兰EUV光刻机目前最小制程已经达到3纳米，相关芯片制造商为三星和台积电。
2. 中科院研发成功2nm光刻机
2nm光刻机是芯片制造的核心设备之一。
在加工芯片的过程中，2nm光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。
2nm光刻机的结构组成：
1、测量台、曝光台：是承载硅片的工作台。
2、激光器：就是光源，光刻机核心设备之一。
3、光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。
4、能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。
5、光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。
6、遮光器：在不需要曝光的时候，阻止光束照射到硅片。
7、能量探测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。
8、掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。
9、掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是nm级的。
10、物镜：物镜用来补偿光学误差，并将线路图等比例缩小。
11、硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。
12、内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。
3. 中国首台5纳米光刻机
不能生产5纳米芯片。
div光刻机一般指的是以193纳米深紫外光为光源的浸润式光刻机，属于第四代光刻机。其加工范围大致为22-193纳米，22纳米以上为euv光刻机加工。但随着光刻机应用技术的进步，duv光刻机目前在14纳米工艺制程已经比较成熟，甚至可以生产趋近于7纳米的芯片，当然良品率非常低，目前无法商用生产。所以duv光刻机不可以生产5纳米芯片。
4. 荷兰光刻机最小多少纳米多少钱
14nm。
目前国内光刻机技术水平距离世界先进还有较大差距，特别是跟荷兰的阿斯麦这样顶尖的公司对比。所以先进制程的光刻机只能依靠进口，14nm的光刻机已经是目前可以获得的最先进光刻机。
7nm制程的光刻机，目前因为禁运原因，国内拿不到。14nm也不是想买就能买的。
5. 荷兰进口光刻机是多少纳米的制程
荷兰生产的光刻机垄断十纳米以下。芯片生产设备。使用全世界五六十个国家的材料和技术。
6. 荷兰光刻机精度
排名前荷兰、日本、中国。
各国光刻机精度排名为荷兰、日本、中国。排名第一的荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机，也是目前唯一高端光刻机，该光刻机采用13.5纳米极紫外光光源制造，目前最大光刻精度为3纳米。其次也是荷兰阿斯麦尔公司的duv光刻机。再次是日本尼康和加盟以及中国上海微电子的duv光刻机。
7. 荷兰asml光刻机几纳米
荷兰光刻机参与国是42国，但技术并不是每个国家全部都有的，而且这是针对高端EUV光刻机来说的。
EUV光刻机的技术其实在很多年前就开始研究了，先后一共加入了40多个国家和地区进行技术上的研究，最早开始的是美国。但并不是这些参与国都拥有EUV相关技术，ASML公布的供应商来看，前17大供应商主要集中在欧盟，美国，日本以及台积电，其中美国占了9家，绿岛占了4家，日本占了3家，德国占了一家。技术主要也是这些供应商所有的，其他是提供些资金或其他帮助。