1. 中国自造光刻机
荷兰，日本，中国。
目前在制造光刻机领域中，荷兰已经达到了领先全球的水平，荷兰的ASML公司占据了全球市场份额的80%.
日本和中国也可以制造出光刻机。日本代表的企业是佳能和尼康，中国的代表企业是上海微电子。
2. 中国自产的光刻机
5nm光刻机只有荷兰的ASML能生产。顶级芯片都是5纳米的，国产目前能做到28纳米。随着芯片产业被越来越多的人们关注，人们对芯片的认识大多都集中在手机厂商们大力宣传的5纳米工艺。而我国的光刻机技术也一直是落后于国际社会的，我们至今都没有研发出5纳米级别的光刻机，大多数国产光刻机只能生产28纳米的。但绝大部分28nm以上的芯片我国都能自产。
3. 中国自造光刻机最新进展
突破了！
28nm光刻机是真的生产出来了。
目前我国的中国电科、上海微电子和长春光机所三个机构接到研发光刻机的任务。上海微电子也是在去年正式推出了28纳米DUV光刻机，长春国科也正向28纳米节点的光学系统攻光，也是预计在今年将取得新突破。上海微电子将在今年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机，这代表着国产光刻机最先进的技术水平，国产光刻机在大幅缩短与海外的技术差距。
4. 中国自造光刻机龙头企业
北方华创002371、芯源微（688037）、清溢光电（688138）、华特气体（688268）、大族激光（002008）、永太科技（002326）、奥普光电（002338）、胜利精密002426、南大光电300576、容大感光300346、蓝英装备300293、上海新阳、永太科技002326、飞凯材料300398、中微公司、雅克科技、宝通科技、高盟新材、强力新材、江化微、沪硅产业等。
5. 中国制造的光刻机
1974年9月、1975年12月、1977年1月先后召开关于全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战会议。在这三年期间中国成功研制出了分布重复式光刻机、电子束曝光机，超纯水处理系统等一流水平的半导体设备。中科院半导体研究所1978年开始研制半自动接近式光刻机，1981年研制成功。中科院45所1985年研制出了分布式光刻机。这台分布式光刻机是中国光刻机的标杆也是中国光刻机的绝唱。
八十。