1. 蚀刻机
这就是蚀刻机和光刻机之间的区别了
最简单的区别就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀，这就是这光刻和蚀刻的难度。
光刻的过程就是现在制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶，接下来通过光线透过掩膜照射到硅圆表面，因为光刻胶的覆盖，照射到的部分被腐蚀掉，没有光照的部分被留下来，这部分便是需要的电路结构。
蚀刻则是电路结构了，干刻目前还没有实现商业量产，其原理是通过等离子体代替化学溶液，去除不需要的硅圆部分。
2. 蚀刻工艺流程
在氯化铜溶液中加入氨水，发生络合反应， CuCl2+4NH3→Cu(NH3)4Cl2 在蚀刻过程中，基板上面的铜被〔Cu(NH3)4〕2+络离子氧化，其蚀刻反应：Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl所生成的〔Cu(NH3)2〕1+不具有蚀刻能力，在过量的氨水和氯离子存在的情况下，能很快地被空气中的氧所氧化，生成具有蚀刻能力的〔Cu(NH3)4〕2+络离子，其再生反应如下：2Cu(NH3)2Cl+2NH4Cl+2NH3+1/2O2 →2Cu(NH3)4Cl+H2O所以在蚀刻时，应不断补加氨水和氯化铵，也称子液.
3. 蚀刻机和光刻机区别
ASML EUV光刻机1.2亿美金，蚀刻机应该也是在1千万的级别，难度差距不是一点点。
另外光刻机里面的光源系统，纯硬件水平要达到几个纳米，需要用到超高功率的激光才能实现，功耗水平很高，同时光源的均匀化需要很高的反射材料，对材料以及仪器的环境要求更高。
EUV光刻机的话，目前市场可以做到的也就是ASML，Nikon，Canon，其中ASML更是占到了8成的市场份额。
国内目前仍然是求着人家买光刻机的地位，7nm的光刻做出来的芯片产品，从ASML的布局看，已经是在为2030的下游产品布局的了。
4. 蚀刻机是做什么的
蚀刻机最好的是美国泛林半导体、应用材料公司、日本的东京电子这三家顶尖的蚀刻机公司占据了94%的市场。其中又以美国的泛林半导体最强。
蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。
5. 不锈钢蚀刻工艺
不锈钢蚀刻是通过涂布感光油，将图形通过曝光的方式转移到不锈钢上，感光油经曝光后，固化在不锈钢上，以方法后期通过化学蚀刻液进行腐蚀。
6. 蚀刻机和光刻机哪个先进
光刻机主要作用是用光把掩膜版上的电路设计图进行缩小后转印到硅片上，其过程类似于照相机照相的过程，世界上能生产光刻机的厂家有阿斯麦，尼康，佳能和中国的上海微电子！
蚀刻机主要作用是把硅片上经过光刻后，未受到光刻胶保护的地方去除掉。