1. 奥普光电光刻机和国外的差距
可以制造国产光刻机的只有一家，即上海微电子。目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、上海微电子。上海微电子可以制造90纳米光刻机，28纳米光刻机项目已经进入最后阶段。
2. 奥普光电光刻机和国外的差距有多大
奥普光电本身不弄光刻机，大股东旗下国望光学核心团队成员全部来自于我国唯一一家超精密光学系统产业化技术研发单位-长春国科精密光学技术有限公司（国望光学对其全资收购工作将于年内完成）。
团队研发的我国首套90nm节点ArF投影光刻机曝光光学系统已于2016年顺利交付用户，此项成果标志我国超精密光学技术已全面形成并跻身国际先进行列
3. 光刻机中国和国外的差距
能够研发的，首先要相信自己的国家，自力更生，艰苦奋斗，从无到有，不让欧美西方国家卡脖子虽然光刻机的自主研发之路很困难，但是中国还是取得了很大成就的。2016年，上海微电就成功研发了90nm光刻机。2018年，中科院的超分辨光刻机设备研发成功，目前结合独特的双重曝光技术已经可以自主研发10nm芯片了。虽然10nm的芯片和目前世界上顶尖的芯片还有一段距离，但这总归是一个好的开始。
4. 奥普光电光刻机和国外的差距大吗
目前，国内的芯片生产依旧处于短板状态，中科院攻克光刻技术，国产芯片有望实现弯道超车。受上述消息的影响，光刻机概念股有望迎来上涨。那么，光刻机概念股有哪些?
中国科学院苏州纳米与纳米仿生研究发表了一种新型5nm光刻加工方式。与现有的主流光刻加工技术相比，中科院所研发的纳米光刻技术加工更快捷，而且能获得更大规模的产生，该技术所使用的材料也更加的广泛。有分析表示，一旦技术成熟将可以直接应用于碳基芯片，那么中国芯片有望实现弯道超车。
值得一提的是，2020年光刻机概念股有：
张江高科(股票代码：600895)、奥普光电(股票代码：002338)，福晶科技(股票代码：002222)、英唐智控(股票代码：300131)、智光电气(股票代码：002169)、蓝英装备(股票代码：300293)、上海新阳(股票代码：300236)等。
英唐智控：公司2019年实现营业总收入119.5亿，同比下降1.4%;实现归母净利润2856.5万，同比下降79.7%。今年一季度公司实现营业总收入19.6亿，同比下降23.2%;归母净利润-3917万，同比下降超过186%。公司2019年营业成本110.7亿，同比下降1.1%。期间费用率为5.6%，同去年相比变化不大。
5. 中国光刻机与世界光刻机差距
答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！
6. 国内外光刻机的差别
5n川光刻机和刻蚀机的区别主要表现在三个方面:
一、难度:光刻机难，刻蚀机难。
原理:光刻机打印图纸，刻蚀机根据打印的图案蚀刻掉有图案/无图片的部分，剩下的留下。
第三，流程操作不同
(1)掩模版对准:利用光化学反应原理和化学物理刻蚀方法，将掩模版上的电路图形转移到单晶的表面或介质层上，形成有效的图形窗口或功能图形。在晶圆表面，电路设计图案直接由光刻技术决定，因此光刻技术也是芯片制造中的核心环节。
(2)、刻蚀机:通过化学和物理的方法，将显影后的电路图永久准确地留在晶圆上，选择性地去除硅片上不需要的材料。有两种蚀刻方法，湿法蚀刻和干法蚀刻。
光刻机又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。
通常，光刻工艺须经历清洗和干燥硅片表面、涂底漆、旋涂光刻胶、软烘烤、对准曝光、后烘烤、显影、硬烘烤和蚀刻的过程。
刻蚀机等离子，又称等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子刻蚀机、等离子表面处理器、等离子清洗系统等。
等离子蚀刻是较常见的干法蚀刻形式。其原理是暴露在电子区的气体形成等离子体，产生的电离气体和释放的高能电子组成的气体形成等离子体或离子。当电离的气体原子被电场加速时，它们会释放出足够的力，紧紧地附着在材料上，或者利用表面斥力刻蚀表面。
7. 美国光刻机什么水平
最发达的是德国、日本、美国、中国等国家。
纳米光学最发达的是德国、日本、美国、中国等国家。像光刻机这种代表人类纳米技术最高成就的光学设备，有能力制造相关光学零件组的就是这些国家。比如euv、duv光刻机的镜头组，就是采用德国蔡司镜头组。像射电望远镜这种精密光学仪器也仅有中美等国可以制造。