1. 国内有没有光刻机技术
国内有手机芯片光刻机。
国内不但有手机芯片光刻机，而且还有纯国产的光刻机。全球目前只有四家公司有能力制造光刻机，唯一高端的荷兰阿斯麦尔euv光刻机、日本尼康和佳能的duv光刻机，中国上海微电子的duv光刻机。上海微电子去年只是做的是低端90纳米的光刻机，去年年底28纳米中端duv光刻机通过技术检测和认证，今年应该能量产了。
2. 中国的光刻机技术到底如何
我国的光刻机技术仍然处于低端水平，上海微电子的光刻机代表我国光刻机的最高水平，制程工艺为90nm，而ASML的光刻机已经进入5nm的制程工艺，我国的高端光刻机全部依靠进口
3. 国内有光刻机吗
成功了。
国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体(中国)有限公司的“光刻机”技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平。
4. 目前国内光刻机
答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！
5. 国内有没有光刻机技术研究
光刻机制造是世界上最难的，比制造原子弹还难，整个机器有十万个左右零件，每一个零件要求特别高。
中国这方面积累薄弱，但工业门类齐全，能集中精力办大事，现有上海微电子研究成功90纳米的光刻机。随着国家人才的培养，投入的加大，一定能制造世界上最先进的光刻机。
6. 光刻机中国有没有
中国没有自主研发的2纳米光刻机。
全球只有四家公司能制造光刻机，分别是荷兰阿斯麦尔全球唯一高端euv光刻机，日本尼康佳能duv光刻机，中国上海微电子的duv光刻机。但是目前没有任何一家能制造2纳米光刻机。荷兰的是13.5纳米极紫外光光源的euv光刻机，三星通过技术手段使其加工芯片制程达到4纳米精度，目前为全球最高。