1. 光刻机研究出来了吗
确实中芯国际研发的首台。
中国国产的芯片制造技术，仍大幅度落后于国际。由中芯国际研发的光刻机，还处于28nm工艺的水平，和国际主流的7nm工艺，还有很大的差距。预计在今年下半年开始，国际芯片制造将迈入5nm工艺时代。
至于网上流传的中芯国际成功研制7nm光刻机，则没有官方消息的证明。但好消息的是，近年来，中国开始重视芯片制造技术，传闻华为已开始研究和生产光刻机，并且将采用更为先进的技术，在此也是希望华为能再次成功。
2. 光刻机研制成功
成功了。
国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体(中国)有限公司的“光刻机”技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平。
3. 研发光刻机有多难
曾经有一位美国工程师是这样评价光刻机的，他说：“光是光刻机上的一个小零件，工程师就需要调整高达十年之久，就连尺寸的调整就要高达百万次以上。
4. 光刻机研究进展
没有突破到22纳米。
国产光刻机目前能量产的制程是90nm，这是上海微电子制造的设备，该公司也是全球四家光刻机制造商之一。上海微电子公司去年28nm光刻机已经通过技术检测和验证，预计今年可以提供给采购方。而22nm这种制程的光刻机应该没有被列入该公司计划。
5. 光刻机进展 知乎
中国最牛的光刻机生产商是上海微电子装备公司（SMEE），它可以做到的最精密的加工制程是90nm，相当于2004年最新款的 intel 奔腾四处理器的水平。别小瞧这个90nm制程的能力。这已经足够驱动基础的国防和工业。哪怕是面对“所有进口光刻机都瞬间停止工作”这种极端的情况时，中国仍然有芯片可用。