1. 中国首台5纳米光刻机
5纳米光刻机中国目前还无法做得出来。
目前全球最高端的光刻机是荷兰阿斯麦尔公司生产的euv光刻机，其光源是13.5纳米的极紫外光光源。所谓7纳米5纳米都是用13.5纳米光源通过技手段制造的。而我国目前的技术还无法制造euv光刻机的主要零部件，比如极紫外光光源，比如光刻机物镜组。我们目前最先进的光刻机只能制造28纳米的光刻机。技术进步需要时间，而且这么复杂的超大型精密设备需要更多的时间。
2. 中国光刻机
中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径。
虽然ASML光刻机技术先进，但荷兰并不是一国之力就能制造的。 其中，光学仪器来自美国，透镜组件来自德国蔡司，另外5万个零件也依赖海外进口。
虽然中国已经突破了22纳米光刻机的技术，但与荷兰ASML公司的5纳米水平仍然有很大差距。 但是，技术总是从无到有，从有到优的过程，就像万事难以开始一样。 现在，国产光刻机已经有了良好的开端，相信不会让国民失望。 同时，中国在科技领域创造的奇迹已经不少了。
在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，使光束透过绘有电路图的掩模，用物镜补偿各种光学误差，将电路图按比例缩小映射到硅片上，用化学方法显影，刻在硅片上的电路图
3. 中国援俄无人机
俄罗斯所使用的无人机以本国生产的为主，部分从伊朗进口，也有部分从别的国家进口。自从俄罗斯与乌克兰发生战争以来，各种无人机（包括侦察无人机，察打一体无人机以及小型自毁式无人机）在战场上发挥了独特的作用，让大家看到了无人机的发展前景。
4. 中国首台5纳米光刻机是谁发明
不能造，目前在实验室里中国科学家已经可以加工出表面结构尺寸10纳米级别的压印雕版，并用它在硅片表面蚀刻出复杂而精密的结构，加工精度甚至比10纳米级别的光刻机还要高，这样的精度已经可以用来制造一些性能较高的芯片。
5. 中科院研发成功2nm光刻机
2nm光刻机是芯片制造的核心设备之一。
在加工芯片的过程中，2nm光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。
2nm光刻机的结构组成：
1、测量台、曝光台：是承载硅片的工作台。
2、激光器：就是光源，光刻机核心设备之一。
3、光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。
4、能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。
5、光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。
6、遮光器：在不需要曝光的时候，阻止光束照射到硅片。
7、能量探测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。
8、掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。
9、掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是nm级的。
10、物镜：物镜用来补偿光学误差，并将线路图等比例缩小。
11、硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。
12、内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。
6. 光刻机
12寸的1.5亿欧元一台。
荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机售价大约1.5亿欧元，不过要说明的是并没有5纳米光刻机，euv光刻机目前处于第一代，也就是13.5纳米极紫外光光源波长本身就是euv光刻机的精度，荷兰阿斯麦尔euv光刻机非常昂贵，每台售价差不多1.5亿欧元。