1. 光刻机纳米大小有啥作用
90纳米制程工艺的芯片到底有多大，能做什么样的手机？
想想，台积电在大概在04年，05年的时候它的90纳米制程工艺技术才完全成熟起来，其实上述这个标题表述不准确，不是90纳米的光刻机，应该说90纳米制程工艺，纳米就是比头发丝还小的概念，90纳米并不是说的芯片整体外观大小，而说的是在芯片上光刻布置的元器件的间距。
2. 光刻机是纳米技术吗
应该不是的，光刻机是用来制做半导体芯片的。
3. 光刻机纳米指什么
光刻机纳米越低越好。越低表示分辨率越高越精确。
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem。
低纳米光刻机，是分辨率较高，精确到纳米的光刻机。2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
4. 光刻机最好是几纳米
能量产14纳米芯片。
2022年中国光刻机能生产14纳米芯片。目前我国芯片制造工厂最高可以批量生产14纳米芯片，而技术上可以生产7纳米芯片，不过目前良品率不高无法量产。而上海微电子去年28纳米光刻机已经通过技术检测和验证，该光刻机完全可以和阿斯麦尔光刻机一样制造14纳米芯片。
5. 光刻机的纳米数是越多越好还是怎么的
原件在芯片之间的距离。
6. 光刻机纳米粗细有什么区别
2纳米芯片非常难。
纳米是个单位，大约一纳米是头发丝的六万分之一粗细。而目前只有荷兰阿斯麦尔一家能够制造极紫外光光源的euv光刻机，只有euv光刻机才能制造14纳米以下制程的芯片，目前芯片制程是4纳米已经量产，3纳米芯片可以流片。但是到了3纳米这个程度，以前的芯片架构已经无法通过技术手段降低制程了。必须采用新的架构，所以台积电和三星基本上在2纳米制程都重新设计结构，放弃一直使用的FinFET，而采用全新的GAA结构，这个难度等于更新换代，而且2纳米已经接近原子极限了，所以2纳米芯片非常难。