1. 中国有多少纳米的光刻机
光电所微细加工光学技术国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机，结合多重曝光技术，可以用于制备10纳米以下的信息器件。这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革，也将加快推进工业4.0，实现中国制造2025的美好愿景。
2. 中国可以生产多少纳米的光刻机
没有国家能造
光刻机被誉为“现代光学工业之花”，号称比研制原子弹还困难！全球只有3个国家能造。在全球高端光刻机市场，荷兰达到全球领先水平，除了荷兰，日本、中国也可以制造光刻机。但我国一直被西方国家牢牢“卡脖子”，至今都没能突破尖端技术。
3. 中国自己的光刻机多少纳米
光刻机是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断，那么全球最先进的光刻机是多少nm的？中国现在又能够做出几nm的芯片呢？
目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了，它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV），是目前全球最顶尖的光刻机设备。
中国目前最先进的光刻机应该是22nm的，它的关键部件可以实现国产化了。但中国已经可以实现14nm芯片的量产了，这是中芯国际取得的一个重大成绩。
4. 中国最先进的光刻机是多少纳米
最大尺寸为28纳米。
首先要说，光刻机不是论最大尺寸的，而是论纳米制程的，不是越大越好，而是工艺制程越小越好。国产光刻机目前可商业化量产的为上海微电子90纳米光刻机，而在去年上海微电子28纳米光刻机通过了技术检测和验证，预计今年可以量产。所以国产光刻机最大尺寸是28纳米。
5. 中国有几纳米的光刻机
国产最新光刻机最先进的工艺是6纳米工艺的虎贲7520芯片。属于第二代5g网络芯片，其理论性能约等于联发科天玑800处理器水平。
缺点是良品率低，尤其对比市场上主流芯片良品率…而框架结构设计上也是欠缺，6纳米工艺制程芯片性能只能对比目前中端处理器，对比旗舰级别处理器差距明显，尤其驾驭硬性性能输出不够，跑分上落后很多。
国内产的芯片主要搭载中低端产品，其配置上更多搭载的是虎贲t310型号，工艺制程是12纳米技术，跑分约3.7万左右！实际操作上只能对比一下高通骁龙4系处理器，或者是联发科p30芯片。
6. 中国有多少纳米的光刻机厂
6纳米。
光刻机，简单来说就是用来制造芯片的机器。现在最主要的两种光刻机就是EUV光刻机和DUV光刻机。ASML公司向我国提供的光刻机主要就是EUV光刻机，其制作的芯片主要应用于手机、电脑等常见电子产品。
拥有13亿人口的我国，是电子产品的消费大国。如此庞大的人口红利催生出了庞大的工业产业链，也孕育出了强大的国产品牌，比如华为，小米等。制造电子产品最为核心的技术就是芯片。
由此可见，芯片作为电子设备制造的上游产品有着非常重要的作用。我国虽然近几年电子产品制造业迅猛发展，但是芯片的研发制造技术还没有完全突破。
7. 国内光刻机多少纳米
尼康和佳能光刻机能达到22纳米。
尼康和佳能的光刻机使用的是第四代光源技术，既193纳米深紫外光光源，但佳能和尼康当初走的是干法光刻技术，最终只能做到145纳米而停滞不前，同样一个时代的荷兰阿斯麦尔另辟蹊径用湿法光刻制作了浸润式光刻机，精度大大提高，所以走了弯路的尼康和佳能在技术上落后阿斯麦尔一整代。