1. 28nm光刻机国产率
28nm光刻机已经量产好几年了，国产的去年已经交付。
2. 中国首台28nm光刻机问世
是真的。
光刻机，又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
我国很早就在研发光刻机，之前生产出来的只不过是低端的光刻机。2016年，上海光电就生产制造出了90纳米的光刻机，占据着我国市场80%的份额，虽说低端，但满足大多数需求是够的。象尖端手机需要的芯片我们目前还被西方国家卡脖子。但在国家的大力支持下，在国人日夜的攻坚下，上海光电28纳米光刻机已研发成功，今年明年将量产。后续我们还将继续突破。
2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
3. 国产28nm光刻机进展
目前未知。
28纳米光刻机应该指的是上海微电子的28纳米duv光刻机。该光刻机去年通过技术检测和验证，不过具体量产时间目前未知，上海微电子方面也没有具体订单宣布。
4. 中国28nm光刻机最新进展曝光
可以生产10nm芯片。
28nm光刻机可以生产10nm芯片。在没有euv光刻机的年代，台积电利用28nm光刻机就已经能够生产7nm芯片了，所以生产10nm完全没问题。其原理大致是通过对晶圆多次曝光多次蚀刻达到更高制程。国内比如中芯国际现在也可以生产10nm芯片。
5. 中国28nm光刻机量产
28nm芯片早就可以国产化了。
国内芯片巨头中芯国际已经完全掌握14纳米芯片制造技术了，其n+1、n+2技术目前应该可以达到12纳米工艺制程，理论上可以达到7纳米工艺制程。这个用的设备应该是阿斯麦尔的四代光刻机，如果明年能上上海微电子28nm光刻机那就是纯国产，至于28nm芯片用国产90纳米光刻机也能制造，早就国产化了。
6. 国产28nm光刻机量产
中国28nm光刻机靠谱，确实中芯国际研发的首台。
中国国产的芯片制造技术，仍大幅度落后于国际。由中芯国际研发的光刻机，还处于28nm工艺的水平，和国际主流的7nm工艺，还有很大的差距。预计在今年下半年开始，国际芯片制造将迈入5nm工艺时代。
至于网上流传的中芯国际成功研制7nm光刻机，则没有官方消息的证明。但好消息的是，近年来，中国开始重视芯片制造技术，传闻华为已开始研究和生产光刻机，并且将采用更为先进的技术，在此也是希望华为能再次成功。