1. 极紫外线光刻机
有euv光刻机、duv光刻机等种类。
光刻机按不同类型可分为不同种类，比如接触式光刻机、直写式光刻机、投影式光刻机、干法光刻机、浸润式光刻机等，这些是使用方式分类。常见的分类还有光源分类，比如高端euv极紫外光光源光刻机、duv深紫外光光源光刻机、i线光刻机、g线光刻机，还有krf、arf光刻机等。
2. 极紫外线光刻机多少钱
大约1.5亿欧元。
荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机售价大约1.5亿欧元，不过要说明的是并没有5纳米光刻机，euv光刻机目前处于第一代，也就是13.5纳米极紫外光光源波长本身就是euv光刻机的精度，只不过台积电和三星通过技术使其能够加工出5nm芯片甚至更高制程。荷兰阿斯麦尔euv光刻机非常昂贵，每台售价差不多1.5亿欧元。
3. 极紫外线光刻机波长
指的是14nm芯片量产。
光刻机14nm量产实际上指的是使用光刻机可以量产14nm的芯片，并不是14nm制程光刻机设备量产。目前最高端光刻机是13.5nm极紫外光光源波长的光刻机，没有14nm光源波长的光刻机。这种类型一般用于高端芯片，比如5nm、7nm。而14nm芯片量产指的是光源波长193nm的duv光刻机通过技术实现14nm芯片量产。
4. 极紫外线光刻机组成
现在半导体生产中光刻机是必不可少的，通过配置不同波长的光源可以生产不同工艺和技术节点的芯片，光刻机的光源波长大致可以分为436nm(g线)365nm(i线)248nm(Krf)及深紫外193nm(Arf)和13.5nm的极紫外EUV光刻机，现在最先进的是EUV可以生产7nm以下的芯片！
5. 极紫外线光刻机原理
紫外超分辨光刻机不是真的，紫外超分辨光刻设备是真的。
原文章是这样的。该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。
简单来说，这是光刻机的一个主要部件不是全部，而且目前也没法实现商用。
6. 中国首台5纳米光刻机
小于5纳米的光刻机。
光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断。目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了，它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV），是目前全球最顶尖的光刻机设备。
中国目前最先进的光刻机应该是22nm的，它的关键部件可以实现国产化了。但中国已经可以实现14nm芯片的量产了，这是中芯国际取得的一个重大成绩。
7. 中科院研发成功2nm光刻机
目前ASML主要对外销售的光刻机设备为NXE:3400C，全新的模块化设计，也是让光刻机设备更加便于维护和维修，同时也支持7nm、5nm芯片工艺制程，而根据ASML此前所披露信息来看，目前也正在研发全新一代EUV光刻机设备EXE:5000系列，全新一代EUV光刻机设备的主要合作伙伴依旧还是卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心，而这次全新研发的EXE:5000系列EUV光刻机，分辨率更是直接提升了70%，意味着ASML这次所研发的EUV光刻机设备将会直接瞄准2nm，甚至是极限1nm芯片制程工艺。