1. 0.01mm光刻机
5nm芯片是集成电路的规模生产能力，可靠性，电路设计的模块化方法确保了快速采用标准化集成电路代替了设计使用离散晶体管。
集成电路对于离散晶体管有两个主要优势：成本和性能。成本低是由于芯片把所有的组件通过照相平版技术，作为一个单位印刷，而不是在一个时间只制作一个晶体管。性能高是由于组件快速开关，消耗更低能量，因为组件很小且彼此靠近。2006年，芯片面积从几平方毫米到350 mm，每mm可以达到一百万个晶体管。
2. 0.01纳米光刻机
湖南根本没有什么光刻机生产线，只有上海的中科院才能生产全球低端的60纳米光刻机，而且核心镜头和主要零件是进口的
3. 0.1纳米的光刻机
90nm的光刻机，属于荷兰ASML15年前的水平，但仍然是国内最顶尖的技术。
在芯片的生产制造过程中，光刻机是重中之重，而提及光刻机，就不得不提荷兰ASML公司。在全球范围内能够生产出高端芯片的光刻机，只有荷兰ASML，因此ASM垄断了全球高端光刻机市场，甚至因产量有限而“有价无市”。
4. 0.1毫米光刻机
小到100平方毫米，大到4万多平方毫米。
65纳米光刻机能够制造芯片的大小和制程关系不大，和芯片设计用途关系比较大。理论上65纳米光刻机最大制作面积就是硅晶圆的内切正方形，比如amd的线程撕裂者就有4万多平方毫米，而普通芯片面积也就100平方毫米左右。
5. 0.1nm的光刻机
没有001nm这种光刻机概念。
001nm光刻机是不可能产生的，如果是0.01nm的话，这个制程比硅原子小25倍，目前人类根本没法分割原子，也没有何时的光源和技术能达到这个制程。如果是1纳米，以目前的极紫外光光刻机也是不可能达到的，如果换其他光源比如X光又无法控制，根本做不出批量生产的光刻机。所以001nm光刻机不仅没研究，也不存在这个概念。
6. 0.5nm光刻机
0.01nm光刻机比目前最先进的芯片还要小400倍，这种精度已经不是光刻机能够实现的了。
目前全球最小制程的芯片是4nm，是使用荷兰阿斯麦尔13.5nm极紫外光光源euv光刻机生产的，而该光源理论极限要大于1nm，所以0.01nm这种光刻机以现有技术根本实现不了，而且整个光刻机体系从理论上是完全实现不了的，毕竟1纳米已经接近单个原子的范畴了。
7. 0.1mm的光刻机
光刻机镜头尺寸分析如下。
以荷兰阿斯麦尔公司生产的euv光刻机为例，如果按照轴对称非球面加工，该镜片系统口径最大540mm，加工难度非常高。光刻机镜头系统通常由数十块镜头构成物镜系统，其尺寸通常直径一米，长度两米甚至更大。各家光学镜片公司的尺寸不尽相同，但光刻机的镜片远远超过大型望远镜。