1. 光刻机
光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机，同时用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板。
光刻机（MaskAligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
2. 光刻机是干什么用的
液晶显示器像素点蚀刻
3. 光刻机是什么东西
制造芯片必不可少的机器。
4. 光刻机概念股的龙头股
唯一一家国宝级核心科技龙头股！公司有：稀土、钨钼、航天航空等等题材。公司部分难熔金属及其合金靶材产品应用于芯片、半导体等领域；公司是中芯国际集成电路公司的供应商，公司还为台积电、长江存储等半导体设备制造公司及其半导体配件公司提供部分关键材料；公司的一种钨合金产品可以用于国外某型号光刻机设备，公司正在与国内刻蚀机厂家合作开发部分相关材料；公司MIM产品用于华为网络基站，钕铁硼产品用于华为基站
5. 光刻机公司排名
光刻机数量排名基本上就是以台积电、三星和英特尔为主。光刻机拥有量最多的是台积电，其中euv光刻机大约70台，duv光刻机二百余台。
其次是三星，euv大约20台。
第三是英特尔，euv光刻机不到10台。
6. 光刻机为什么中国做不出来
因为国内光刻机相关技术比较落后。
由于美国的技术封锁，国内得不到顶级光刻机制造所需的零部件。并且我国在光刻机相关技术方面比较落后。比如13.5纳米极紫外光光源，比如日本及德国的高尖端光学镜头。一台阿斯麦尔光刻机需要十万零件，全球五千家供应商，才能制造出3nm的光刻机。我们目前只能制造低端90纳米的机型，预计年底能出28纳米的。我们在追赶世界先进技术，但需要时间。
7. 光刻机的工作原理
原理就是激光直写。
pcb就是印制电路板，又称印刷线路板，是重要的电子部件，是电子元器件的支撑体，是电子元器件电气相互连接的载体。由于它是采用电子印刷术制作的，故被称为“印刷”电路板。半导体直写光刻和印制电路板pcb直接成像技术是同样的，也就是说pcb既能印刷也能光刻。不过pcb板的光刻机原理就是激光直写的，也就是直接用激光烧蚀电路，与芯片光刻机无法相提并论。