1. 光刻机与激光
光刻机一般是用惰性气体激光。
光刻机通常是用惰性气体产生的准分子激光，准分子激光是一个冷的紫外光，它是准分子产生的激光，就是一种准分子物质。这种物质叫二聚体气体，这种气体在强烈的一些电厂的照射下，它会产生一种紫外光，这种紫外光，叫准分子激光，这种准分子是一种相当不稳定的物质，它稍纵即逝，我们称它为准分子。光子能量波长范围为157－353纳米，寿命为几十毫微秒。阿斯麦尔的EUV光刻机用的是CO2产生激光，再轰击锡滴产生13.5纳米的极紫外光。
2. krf 光刻机
0.35um光刻机不先进，属于低端机型。
光刻机目前最先进的是荷兰阿斯麦尔公司生产的13.5纳米光源的euv光刻机，你所说的0.35um光刻机是350纳米制程的，属于非常低端机型。
光刻机的发展分为五代，从低到高分别是g线436纳米，i线365纳米，KrF248纳米，ArF193纳米，EUV13.5纳米。所以你说的这个350属于第二代光源机型
3. krf arf光刻胶
晶瑞电材:公司亮点：国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一。
2.南大光电:公司亮点：MO源产业化生产的企业。
3.容大感光:公司亮点：行业内生产PCB感光油墨产品品种最为齐全的企业之一。
4.江化微:公司亮点：国内湿电子化学品龙头。
5.上海新阳:公司亮点：主营半导体行业所需电子化学品，同时参股子公司已量产大硅片。
6.彤程新材:公司亮点：中国最大的特种橡胶助剂生产商之一。
7.飞凯材料:公司亮点：我国主要的光纤光缆涂覆材料供应商之一。
4. arf光刻机是什么意思
光源最高13.5纳米。
光刻机光源目前最高为13.5纳米，是euv深紫外光光源。光刻机光源分为五代，目前使用最多的是第四代和第五代，第五代就是euv光刻机。而第四代是duv光刻机，为193纳米深紫外光光源，也叫arf光刻机光源，是目前芯片制造公司或代工厂使用量最大的一类光刻机。
5. Arf光刻机
曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。
常见光源分为:
可见光：g线：436nm
光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。紫外光（UV），i线：365nm
深紫外光（DUV）,KrF 准分子激光：248 nm, ArF 准分子激光：193 nm
极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm
6. 光刻胶krf和arf
研究开发光刻胶系列产品就是光刻胶研发。
例如：南大光电“ArF光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02专项”的一个重点攻关项目。本次产品的认证通过，标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。
光刻胶是半导体芯片制造过程中的核心材料之一，经过紫外光、电子束等照射，光刻胶得到曝光，化学性质发生改变，经过显影液的洗涤，图案会留在衬底上。光刻胶分为KrF(248nm)、ArF(193nm)和EUV(13.5nm)几种，括号中的数值为曝光光源的波长。
7. krf是什么意思 光刻
是美国的品牌。
光刻技术作为当前主流的光刻技术，主要包括：特征尺寸为0．1μm的248 nm KrF准分子激光技术；特征尺寸为90 nm的193 nm ArF准分子激光技术；特征尺寸为65 nm的193 nm ArF浸没式技术（Immersion，193i）。其中193 nm浸没式光刻技术是所有光刻技术中最为长寿且最富有竞争力的，也是目前如何进一步发挥其潜力的研究热点。传统光刻技术光刻胶与曝光镜头之间的介质是空气，而浸没 式技术则是将空气 换成液体介质