一、为什么中国光刻机
能够研发的，首先要相信自己的国家，自力更生，艰苦奋斗，从无到有，不让欧美西方国家卡脖子虽然光刻机的自主研发之路很困难，但是中国还是取得了很大成就的。2016年，上海微电就成功研发了90nm光刻机。2018年，中科院的超分辨光刻机设备研发成功，目前结合独特的双重曝光技术已经可以自主研发10nm芯片了。虽然10nm的芯片和目前世界上顶尖的芯片还有一段距离，但这总归是一个好的开始。
二、光刻机为什么中国没有
中国几年前还不能生产光刻机，因为当时中国能从国际市场上购买，所以说中国也没有想着自己制造，毕竟光刻机技术太复杂，就连荷兰的阿斯麦尔生产的光刻机还需要好多国家的专利技术。
这二年因为美国为首的西方制裁中国，不买光刻机给我们，没办法中国只能自力更生，自己生产，不过高端光刻机暂时我们还不能生产，以后会有的，因为我们一直在努力。
三、为什么中国光刻机不行
因为国内光刻机相关技术比较落后。
由于美国的技术封锁，国内得不到顶级光刻机制造所需的零部件。并且我国在光刻机相关技术方面比较落后。比如13.5纳米极紫外光光源，比如日本及德国的高尖端光学镜头。一台阿斯麦尔光刻机需要十万零件，全球五千家供应商，才能制造出3nm的光刻机。我们目前只能制造低端90纳米的机型，预计年底能出28纳米的。我们在追赶世界先进技术，但需要时间。
四、为什么中国光刻机这么厉害
光刻机突破对于中国来说有重大意义。
首先，光刻机的突破是我国科技突破美国卡脖子的最后一大关。目前美国正在纠集所有的芯片尖端盟友组成芯片联盟，专门卡中国科技发展的脖子。如果中国突破了光刻机技术，那么美国最后一个卡脖子的关键技术就被破解了。
其次光刻机技术是芯片生产的核心技术，突破光刻机技术对我国高科技发展来说具有全面的推动作用，将促进我国在计算机，智能化，通信技术等尖端领域成为世界领先的国家。
另外突破光刻机技术对于我国打破西方垄断芯片和高科技领域具有极其重要的意义。将使得以美国为首的西方国家彻底失去在世界贸易格局中的有利地位，从而推动世界的多极化，将西方彻底推向衰落。
五、为什么中国没有光刻机
没有被叫停。
光刻机目前仅有四个国家能够制造，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子，光刻机是高端科技的集合，任何国家都不可能被叫停。只不过美国掌握的荷兰阿斯麦尔对我们采取高端euv光刻机禁售。而我国上海微电子去年底通过了中端duv光刻机的技术检测和验证，预计今年能为企业提供全套设备。对我国来说光刻机是大力发展的趋势，不可能被叫停。
六、中国有光刻机了吗
是真的。
光刻机，又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
我国很早就在研发光刻机，之前生产出来的只不过是低端的光刻机。2016年，上海光电就生产制造出了90纳米的光刻机，占据着我国市场80%的份额，虽说低端，但满足大多数需求是够的。象尖端手机需要的芯片我们目前还被西方国家卡脖子。但在国家的大力支持下，在国人日夜的攻坚下，上海光电28纳米光刻机已研发成功，今年明年将量产。后续我们还将继续突破。
2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。