1. 我国能造光刻机吗
没有自主。
国产7nm的光刻机还没有研制成功的，能够制造7纳米芯片的光刻机就是极紫外光刻机，目前能够制造极紫外光刻机的只有一家，就是荷兰的阿斯麦公司，而且阿斯麦公司也只是一个组装公司，极紫外光刻机是一个庞大的工程，它的零件都是全球最顶尖的科技，比如美国的光源，德国的镜头，法国机械臂，英国的电动马达，都是要求非常精密的，难度很大，所以我国还没研制出来。
2. 中国自己能造光刻机吗
不是，其实我国早在上个世纪60年代就开始研究光刻机，并且在1965年就研制出65型接触式光刻机。70年代开始，中国科学院就开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。1980年中国清华大学研制的第四代分布式投影光刻机获得成功，将光刻精度缩小至3微米。别看3微米相比如今7nm的制程工艺相差甚远，但在那个年代已经接近国际主流水平
3. 中国能造光刻机么
14nm。
目前国内光刻机技术水平距离世界先进还有较大差距，特别是跟荷兰的阿斯麦这样顶尖的公司对比。所以先进制程的光刻机只能依靠进口，14nm的光刻机已经是目前可以获得的最先进光刻机。
7nm制程的光刻机，目前因为禁运原因，国内拿不到。14nm也不是想买就能买的。
4. 中国可以自己造光刻机吗
近日，我国上海微电子已经宣布研发出来了28纳米光刻机，可能2021年将生产出来成品。这个28纳米光刻机一下子就让我国光刻机水平达到了世界第二先进的状态，可以说在全球范围内仅次于荷兰ASML公司了。现在来说，28纳米的光刻机足够生产出来我国军用和民用说需要的大部分芯片了。
原来，我们国家一直在光刻机方面进行着研究，但是由于更高精度的光刻机原来应用的范围比较窄，研发成本比较高，可能并没有下大力气去研究。现在我国华为在芯片设计领域已经取得了突破，成功推出了7纳米的麒麟990芯片，而且已经研发出了5纳米的麒麟1020芯片，但是却遭遇了芯片断供，这个就让我国EUV光刻机的研发一下子成为了关键。而在压力之下，相信我国科研院所只要是想干，拿出来搞两弹一星的精神，那么可能用不了多长时间我国的EUV光刻机就能够获得突破了。
5. 中国能造光刻机了吗
光刻机是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断，那么全球最先进的光刻机是多少nm的？中国现在又能够做出几nm的芯片呢？
目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了，它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV），是目前全球最顶尖的光刻机设备。
中国目前最先进的光刻机应该是22nm的，它的关键部件可以实现国产化了。但中国已经可以实现14nm芯片的量产了，这是中芯国际取得的一个重大成绩。