一、中国唯一一台7nm光刻机
中国顶尖光刻机就是上海微电子的，没有其他排名。
我们国家光刻机是以上海微电子装备有限公司（SMEE）和中科院以及武汉光电国家研究中心为代表。SMEE的光刻机目前来说它有四大系列，分别是200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机。这些系列机器仅能够做出90nm工艺的芯片，与国外先进的7nm工艺，甚至更为先进的5nm工艺的光刻机还差很多。上海微电子预计年底能完成首台28纳米光刻机。
二、中国唯一一台7nm光刻机现状
中芯国际官宣完成了FinFET N+1先进工艺的芯片流片和测试，所有IP全部是自主国产，而且功能一次测试通过！该代工工艺非常接近7nm制程，并且最重要的是实现该工艺不需要用到ASML公司生产的极紫外光刻机。这意味着，美国卡着ASML公司不卖给中芯国际7nm级紫外光刻机的问题被突破了，即便没有了这台光刻机，中芯国际也能够实现7nm芯片的生产，中芯的工艺技术获得突破。
三、中国芯片世界排名
近日，2020年福布斯全球亿万富豪榜引起了众人的关注，今年疫情的冲击虽大，但首次上榜的富豪数量也有178位。在全球新上榜富豪中，作为韦尔股份实际控制人的虞仁荣凭借着60亿美元，折合420亿元人民币的财富排名第三位，并在全球富豪榜中排名266位。
同时，在集微网中国芯片财富榜单中，虞仁荣更是荣登中国芯片行业首富。据公开资料显示：上海韦尔半导体于2007年成立，专门从事半导体器件研发、设计与销售业务。在2019年，韦尔股份市值涨势明显，如今其市值已经达到1342亿元之高，是中国为数不多的破千亿市值的半导体公司之一。
而创始人虞仁荣则是清华大学无线电系的高材生，毕业后他当过工程师，做过电子元器件销售，由此积累了不少的经验。在32岁时，虞仁荣做起了个体户，从事电子器件分销工作，积累下一笔财富。彼时，手机刚刚普及，各类设备方案公司丛生，但规模都有限。
当其他企业都对这些小设备方案公司不看在眼里时，虞仁荣却认识到该领域的巨大发展潜力。于是，他将自己的产品销售给了那些有着可观发展前景的公司，而且，虞仁荣还将产品提供给其研究。到2006年时，韦尔股份终于成立，虞仁荣从曾经的分销商，走上了半导体器件的自主研发与设计之路。
为加快发展速度，虞仁荣先后并购多家公司，并使得韦尔股份在2017年时便成功上市。此后，韦尔股份更是对全球排名前三的图像传感器供应商——豪威科技进行,并购，一举获得迅猛提升，并由此进入了多个领域。为进一步提升公司实力，韦尔股份还对CMOS图像传感器芯片巨头思比科与视信源进行收购。
最终，韦尔股份在2019年迎来迅猛增长，其营业收入达到136.32亿元，与去年同期相比有着高达343.93%的增长。其中，半导体业务是韦尔股份营收的主要来源，占据总营收的83.56%。同年，其归属股东净利润的同比增长率也达到了221.14%，为4.66亿元。
未来，韦尔股份继续加大在芯片设计领域的投入，发展为一家平台型半导体设计公司。虞仁荣表示，他相信将来的中国一定会出现几千亿美金市值的公司，只要肯深耕。
四、中国光刻机现在多少纳米
最高4纳米。
光刻机本身最高的应该是euv极紫外光光源波长的光刻机，其波长为13.5纳米。用euv光刻机可以制造22纳米以下制程的芯片，目前最高可商业量产芯片的制程为4纳米，分别是高通骁龙8移动平台系列和联发科天玑9000。而未商业量产阶段的芯片最高可以到3纳米制程。
五、国产28nm光刻机
28nm光刻机真的生产出来了。这台国产28nm光刻机，出自于上海微电子之手。
就在近期，据媒体报道称，国产28nm光刻机来了，已完成相关认证，预计年底就能量产并正式投入使用。最近上海微电子的28nm光刻机通过了技术检测和认证，虽然依旧只是DUV水平，与ASML的EUV光刻机相比还有不小的差距。但是这对于国内而言，已经是非常了不起的突破了，28nm光刻机可以满足大部分芯片的生产要求。
六、中科院研发成功2nm光刻机
自晶圆代工模式逐渐进入芯片行业之后，对芯片的设计与发展进行了极大的推动。光刻机技术就是芯片在生产过程中最重要的步骤之一，占据生产制作成本的35%以上。
光刻机技术其实是在晶圆介质被广泛使用的基础上应运而生的，晶圆作为各种电脑芯片、智能手机芯片的基础材料，那么如何把电子信息刻录到各种晶圆上便成为了芯片制造商们的最大难题，而这个难题最后通过光刻机技术完美解决了。
光刻机技术能够采用波长在2000到4500埃的紫外线，将芯片上需要传达的图片信息刻录到晶圆上，借此实现图像的转移、复刻等各个功能。它就如同在芯片制作过程中的一个重要指令，只有事先设计好芯片设计的细节图纸，才能够顺利制造出理想的芯片。
光刻机的发展现状
在电子信息和通讯技术发展领域，一直都是美国等西方发达国家独占鳌头，中国很难分得一席之地。而在中国自己设计研发光刻机的过程中，缺乏半导体生态系统一直是最难突破的问题。
国外很多互联网巨头都有自己的导体生态系统，从芯片材料准备再到技术开发、生产，能够形成一系列完整的生产链，通过自己的光刻机设计出最适宜产品的晶圆芯片，而产品的运营又为光刻机的发展技术进行了支持和推进。
而中国直到2017年，随着中芯国际研发出了纳米加工工艺之后，中国的光刻机才获得了重大突破，这也使中国的5g事业以及航天科技都进行了巨大的进步和推进。即便已经付出了最大的努力，但是中国的光刻机技术与台积电仍然存在很大的差距。
光刻机技术已经是智能领域和芯片技术中的顶尖技术，也是很多企业争相学习和挖掘的技术壁垒。也正是因为光刻机技术的局限，给了台积电极大的发展空间，因为即便是强大如苹果公司这样的企业，在没有掌握先进光刻机技术的同时，也只能依赖于台积电的芯片外包工程。
而中国企业因为在科技领域的起步时间较晚，加上难以掌握其中复杂的工艺技术，所以即便有大量的资金和人力投入，也始终难以触碰到光刻机的制造门槛，更不要说制造出能够达到世界水平的光刻机。
即便是国内芯片设计首屈一指的华为公司，也只能依赖于台积电的帮助。目前光刻机技术最领先的国家是荷兰、德国等，想要实现光刻技术，就要找到稳定的光波和紫外线，这不仅需要先进的设备，更需要超强的技术基础。
而掌握这一门技术除了需要知识储备，没有长达几十年的经验积累是很难实现的，所以很多岗位人员很多都是祖孙三代延续下来的。所以中国的光刻机技术想要更进一步，就需要有更强大的工匠精神支撑，这意味着我们需要付出更多的努力才能实现超越