1. 光刻机中国有吗?
1974年9月、1975年12月、1977年1月先后召开关于全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战会议。在这三年期间中国成功研制出了分布重复式光刻机、电子束曝光机，超纯水处理系统等一流水平的半导体设备。中科院半导体研究所1978年开始研制半自动接近式光刻机，1981年研制成功。中科院45所1985年研制出了分布式光刻机。这台分布式光刻机是中国光刻机的标杆也是中国光刻机的绝唱。
八十。
2. 中国有没有光刻机公司
不具备。光刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩模对准曝光机或者曝光系统、光刻系统等。光刻机是用来制造芯片的核心装备之一。光刻机是一种采用类似于照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形经过光线的曝光印制到硅片上的装备。不具备的原因是：1、技术上壁垒高。2、时间周期长。
3、更换供应商成本太高。
买到一台机器和用好机器是两码事。ASML极紫外（EUV）光刻机每台售价达到1.2亿美元，重达180吨，零件超过10万个，运输时能装满40个集装箱，安装调试时间超过一年。除此之外，磨合与提高良率都需要时间堆砌，只要没有大的技术变革，厂商们不可能轻易放弃ASML当其他厂商的小白鼠的。
台积电（占据全球晶圆代工的大半壁江山）、三星、英特尔、格罗方德包括国内的中芯国际都是ASML的客户，其中三星、英特尔、格罗方德还是ASML的股东，三大巨头转投其他家的可能不大。
3. 目前中国有没有光刻机
目前，中国暂时没有4nm光刻机。但5nm的光刻机生产研发已取得突破性的进展。不久的将来，我国的光刻机技术会得到更好的发展，不仅能生产出4nm芯片，还能生产出更高精度的芯片。科技造就未来，我国用科技提高自身综合实力，打破外国垄断指日可待。芯片和光刻机的共同发展，才能造就更加精彩的科技生活，智能化时代就在不远的未来。
4. 目前国内光刻机
光刻机国产排名第一的是上海微电子。
目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司，既上海微电子，所以上海微电子排名第一。
5. 光刻机中国有没有
蔡司是目前唯一掌握EUV光镜技术的厂家。也因为这个原因，ASML与蔡司形成了亲密的合作关系。据悉，ASML公司拥有蔡司24.9%的股份。不只是ASML，整个半导体领域，都存在着蔡司的身影。是：由于我们受到美国技术的打压，蔡司EUV跟我们无缘。目前我们已经完成了28纳米芯片从设备到生产技术的完全自主化生产。中国国产EUV光学镜头有长春光机、中科院、上海光机正进行相关研究项目。