1. 中国电科45所光刻机
突破了！
28nm光刻机是真的生产出来了。
目前我国的中国电科、上海微电子和长春光机所三个机构接到研发光刻机的任务。上海微电子也是在去年正式推出了28纳米DUV光刻机，长春国科也正向28纳米节点的光学系统攻光，也是预计在今年将取得新突破。上海微电子将在今年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机，这代表着国产光刻机最先进的技术水平，国产光刻机在大幅缩短与海外的技术差距。
2. 中国电科45所光刻机研发
众所周知，光刻机在芯片行业十分重要。被誉为智能电子设备之心的芯片，其制造缺它不可。同时，它也被用于封装以及LED制造领域。
一台完整的光刻机，包含了测量台、激光器、能量控制器、硅片等多达十四个部件。
由于制造一台光刻机的工艺繁杂，所需技术水平高，美国的工程师曾感慨：“单单是调整光刻机里的一个小零件，都花了我整整十年的时间。”
光刻机可以说是全球工业制造中最高端的技术，纵观全球，目前也只有四家企业具备研发制造光刻机的能力。其中，以荷兰的ASML技术能力最为突出，只有ASML才能生产EUV光刻机，因此ASML在光刻机市场可谓是一家独大。ASML总裁曾表示：“别人就算是拿到我的图纸，也造不出光刻机。”
ASML主要制造DUV光刻机和EUV光刻机这两大类，这两款光刻机分别可用于生产制造7nm制程以上的芯片和7nm制程以下的芯片。
目前市场上所需的主要也正是这两款光刻机，比如芯片代工巨头台积电，计划在年底前安装50台以上的EUV光刻机。由于市场需求和ASML的市场地位，使得ASML的光刻机供不应求。
日前ASML官宣了新消息。首先其公布了2020年的财报。据ASML总裁Peter Wennink透露，去年ASML的全年净销售额为140亿欧元（约合1100亿元人民币）。其中第四季度的销售额为43亿欧元（约合337亿元人民币）。对该成绩ASML总裁表示“完全超出了预期”、“对公司具有里程碑的意义”。
据资料显示，去年ASML共出货了31台EUV光刻机，营收45亿欧元（约合352.6亿元人民币）。不过ASML的销售额“超出预期”主要是因为DUV光刻机的出货数量增加，单单是第四季度，便出了9台DUV光刻机。
其次，ASML也宣布了将会在中国市场加速布局。作为全球最大的芯片需求市场，中国市场俨然是一块难以拒绝的“肥肉”，因此ASML加速在中国布局也是情理之中。
不过此前由于美国的干涉，国内市场一直无法获得先进的光刻机，此番在ASML的加速布局计划中，ASML将另辟蹊径，向国内厂商提供一切所能提供的技术，这对国内的科技领域无疑是一个巨大的好消息。
毕竟，基于芯片“卡脖子”事件，国内近年来一直投入在半导体市场，着力解决国产芯片的自给自足。若是能得全球最好的光刻机大厂助力，无疑是雪中送炭。
基于光刻机对半导体领域的重要性，我国目前安排了上海微电子、中国电科以及长春光机所三个机构对高端光刻机进行攻关研发。其中上海微电子和中国电科主要着重于DUV光刻机，长春光机所则主要着重于EUV光刻机的研发。
值得一提的是，上海微电子今年下半年将量产28纳米的光刻机。或许最快2-3年，国产高端光刻机便能解决有无的困难。
在未来几年里，ASML把持的光刻机市场将会受到中国企业的冲击。对于我国的光刻机研发，你们觉得前景如何？
3. 中国电科45所光刻机研究所
28nm光刻机真的生产出来了。这台国产28nm光刻机，出自于上海微电子之手。
就在近期，据媒体报道称，国产28nm光刻机来了，已完成相关认证，预计年底就能量产并正式投入使用。最近上海微电子的28nm光刻机通过了技术检测和认证，虽然依旧只是DUV水平，与ASML的EUV光刻机相比还有不小的差距。但是这对于国内而言，已经是非常了不起的突破了，28nm光刻机可以满足大部分芯片的生产要求。
4. 中国光刻机研究所
1974年9月、1975年12月、1977年1月先后召开关于全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战会议。在这三年期间中国成功研制出了分布重复式光刻机、电子束曝光机，超纯水处理系统等一流水平的半导体设备。中科院半导体研究所1978年开始研制半自动接近式光刻机，1981年研制成功。中科院45所1985年研制出了分布式光刻机。这台分布式光刻机是中国光刻机的标杆也是中国光刻机的绝唱。
八十。
5. 中国科学院光电技术研究所光刻机
三安光电不能生产光刻机。
三安光电股份有限公司是国家发改委批准的“国家高技术产业化示范工程”、国家科技部及信息产业部认定的“半导体照明工程龙头企业”，主要从事全色系超高亮度LED外延片、芯片、Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料、微波通讯集成电路与功率器件、光通讯元器件等的研发、生产与销售。
所以三安光电只是生产芯片，不生产光刻机整机以及光刻机零部件。目前国内唯一生产光刻机的企业是上海微电子，别无他家。