1. 最新光刻机技术
综合了菏兰，美国，日本，德国技术
2. 光学 光刻机
光刻机属于一个各学科集成的产品，泛泛而言，设计到光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识，它的研发制造归类为综合性的半导体加工业。在全世界范围内，能够做出光刻机的公司只有少数几家。而且，目前来说，全世界能生产出最先进的光刻机的企业只有一家——ASML。
光刻机所属的半导体加工业，目前基本属于荷兰和日本所垄断。
3. 光刻机 技术
光刻机的研发离不开中国的这三项技术。
其一就是激光通讯技术，目前激光通讯技术已经被广泛应用于通讯电子方面、卫星通讯以及半导体领域中，它主要靠着单色性好、方向性强、光功率集中、难以窃听、本钱低以及安装快的特点。之所以与光刻机有关，主要原因在于他可以通过这个技术制造出光学元件。
其二就是光学元件，目前EUV光刻机中所必备的一个零件就是由激光通讯技术制造出来的光学元件零件，到如今，ASML公司已经从我国进口这项零件已经将近10年多的时间了。
从这一方面来看，其实他们对于中国技术的依赖也很深，而前段时间，ASML公司的副总裁也宣布将会在中国加大研发投资，从这一方面来看，那些包括高通等美科技公司对于国内市场的依赖也很深。
其三，就是MENS设备，这一台是由中国福建研究院进行研发出来的，这其中就要运用到微控流技术，而这项技术目前只有我国做到了掌控。
4. 中国光刻机技术最新突破
是真的。
光刻机，又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
我国很早就在研发光刻机，之前生产出来的只不过是低端的光刻机。2016年，上海光电就生产制造出了90纳米的光刻机，占据着我国市场80%的份额，虽说低端，但满足大多数需求是够的。象尖端手机需要的芯片我们目前还被西方国家卡脖子。但在国家的大力支持下，在国人日夜的攻坚下，上海光电28纳米光刻机已研发成功，今年明年将量产。后续我们还将继续突破。
2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
5. 光电光刻机
大多数是美国、荷兰、德国、日本等国的。
光刻机是种非常复杂的光电、机械、化学、物理等科学领域技术构成的大型设备，所以光刻机整体并没有专利技术，只要有能力就可以制造，但是涉及到其中的零件或零件组及一些制造应用技术就有专利权了。目前大多数专利在美国、荷兰、德国、日本、韩国等国手里，比如在EUV光刻技术专利最早优先权国家/地区的对比中，日本占比为45.5%，排第一位，美国占比为30.27%，排第二位，第三位为德国，占比13.5%。
6. 最新光刻机技术进展
不具备。光刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩模对准曝光机或者曝光系统、光刻系统等。光刻机是用来制造芯片的核心装备之一。光刻机是一种采用类似于照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形经过光线的曝光印制到硅片上的装备。不具备的原因是：1、技术上壁垒高。2、时间周期长。
3、更换供应商成本太高。
买到一台机器和用好机器是两码事。ASML极紫外（EUV）光刻机每台售价达到1.2亿美元，重达180吨，零件超过10万个，运输时能装满40个集装箱，安装调试时间超过一年。除此之外，磨合与提高良率都需要时间堆砌，只要没有大的技术变革，厂商们不可能轻易放弃ASML当其他厂商的小白鼠的。
台积电（占据全球晶圆代工的大半壁江山）、三星、英特尔、格罗方德包括国内的中芯国际都是ASML的客户，其中三星、英特尔、格罗方德还是ASML的股东，三大巨头转投其他家的可能不大。
7. 最新光刻机技术进程
22纳米
前不久，中国北斗三号芯片成功突破了22纳米的限制，而上海微电子技术也再次获得突破，成功研发出了22nm的光刻机。从技术角度来讲，虽然我国获得的突破和外国技术相比，还有一定差距，但从整体进程来看，我国半导体行业和外国的差距正在慢慢减小。