1. 光刻机制造商
属于中端水平。光刻机13.5nm以下是euv高端光刻机，14-42nm属于中端水平，42以上属于低端水平。一般中端光刻机28nm的比较常见，你说的22nm这个应该是指那种超分辨率365nm波长的光刻机，这种是等离子光刻技术，跟通常说的投影式光刻机不同，这种是直写式，效率非常低也无法刻复杂电路。
2. 中国最先进的光刻机
不具备。光刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩模对准曝光机或者曝光系统、光刻系统等。光刻机是用来制造芯片的核心装备之一。光刻机是一种采用类似于照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形经过光线的曝光印制到硅片上的装备。不具备的原因是：1、技术上壁垒高。2、时间周期长。
3、更换供应商成本太高。
买到一台机器和用好机器是两码事。ASML极紫外（EUV）光刻机每台售价达到1.2亿美元，重达180吨，零件超过10万个，运输时能装满40个集装箱，安装调试时间超过一年。除此之外，磨合与提高良率都需要时间堆砌，只要没有大的技术变革，厂商们不可能轻易放弃ASML当其他厂商的小白鼠的。
台积电（占据全球晶圆代工的大半壁江山）、三星、英特尔、格罗方德包括国内的中芯国际都是ASML的客户，其中三星、英特尔、格罗方德还是ASML的股东，三大巨头转投其他家的可能不大。
3. 光刻机是干什么用的
光刻机刻好后下一步是建厂房生产芯片。
光刻机是用来生产芯片的高端设备，世界上最好的光刻机是产自荷兰的阿斯麦公司的光刻机，可以制造5纳米一类的芯片，这正是米国对我国进行卡脖子的那款，我们华为公司有能力设计出5纳米的芯片，但是没有光刻机来进行生产。所以说有了光刻机下一步当然是赶紧建厂生产。
4. 最先进的光刻机
当今，光刻机生产最先进的国家还是荷兰 ASML。
实际上除了荷兰ASM L以外，中国、日本都有能力生产光刻机设备，只是无法达到ASML这么顶级的技术罢了。
虽然目前国产光刻机设备依旧还有很大技术差距，但我们相信随着未来摩尔定律达到极限，一定会有全新的芯片技术诞生，而国产光刻机设备也一定会达到世界顶尖水平，我们期待这一天的尽快到来.。
5. 中国能生产光刻机吗
国产最新光刻机最先进的工艺是6纳米工艺的虎贲7520芯片。属于第二代5g网络芯片，其理论性能约等于联发科天玑800处理器水平。
缺点是良品率低，尤其对比市场上主流芯片良品率…而框架结构设计上也是欠缺，6纳米工艺制程芯片性能只能对比目前中端处理器，对比旗舰级别处理器差距明显，尤其驾驭硬性性能输出不够，跑分上落后很多。
国内产的芯片主要搭载中低端产品，其配置上更多搭载的是虎贲t310型号，工艺制程是12纳米技术，跑分约3.7万左右！实际操作上只能对比一下高通骁龙4系处理器，或者是联发科p30芯片。
6. 光刻机售价
光刻机不是无价之宝，但是价格非常昂贵。
光刻机最高端的是荷兰阿斯麦尔生产的euv光刻机，此光刻机全球仅阿斯麦尔一家能够生产，中低端光刻机全球有三家能够生产，分别是中国上海微电子及日本尼康佳能。高端光刻机零部件差不多十万个，重量达到一百八十吨，其售价为超过1.2亿欧元，而且还不是想买就能买到。