1. 韩国光刻机取得进步
是由十几个国家一起发明的光刻机
光刻机是一套非常复杂的光电、机械、化学等综合学科的电子系统。其中主要零部件由十几个国家一起发明，比如美国symer光源，德国通快激光器，德国蔡司光学系统，英国爱德华真空系统，德国berliner glas静电吸盘等。如果以光刻机发明专利来说，德国蔡司、韩国海力士三星、日本尼康佳能富士信越、美国英特尔等提供了核心专利。基本上光刻机是由欧美十几个国家发明的。
2. 韩国光刻机取得进步的原因
光刻机有美国、德国、日本、中国的零件。
目前全球只有四家可以制造光刻机，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康、佳能、中国。而对于整个光刻机来说，最高端的euv光刻机里，零部件主要来自于美国，其次是日本、德国等。而中国、日本可以制造中端duv光刻机。再有就是台积电、韩国三星、美国英特尔少数几家企业在光刻机的应用技术非常强。
3. 国内光刻机研发进展
突破了！
28nm光刻机是真的生产出来了。
目前我国的中国电科、上海微电子和长春光机所三个机构接到研发光刻机的任务。上海微电子也是在去年正式推出了28纳米DUV光刻机，长春国科也正向28纳米节点的光学系统攻光，也是预计在今年将取得新突破。上海微电子将在今年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机，这代表着国产光刻机最先进的技术水平，国产光刻机在大幅缩短与海外的技术差距。
4. 中国光刻机研发最新进展
光刻机是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断，那么全球最先进的光刻机是多少nm的？中国现在又能够做出几nm的芯片呢？
目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了，它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV），是目前全球最顶尖的光刻机设备。
中国目前最先进的光刻机应该是22nm的，它的关键部件可以实现国产化了。但中国已经可以实现14nm芯片的量产了，这是中芯国际取得的一个重大成绩。
5. 中国在光刻机突破
答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！