1. EuV光刻机
euv光刻机需要几十个国家的供应商。
euv光刻机是一台机器，尽管荷兰的ASML是全球顶级光刻机生产商，但是生产一台光刻机需要10多万个零件，这些零件同样来自全球不同国家的超过5000家供应商，可以说光刻机的产业链是一个全球性的产业， 其中32%在荷兰和英国，27%供应商在美国，14%在德国，27%在日本。
2. euv光刻机多少纳米
0.1nm光刻机是目前无法实现的。
以目前最高端的euv光刻机来说，最小的极限就是趋近于1nm，这是物理极限。而0.1nm就是原子本身的物理尺寸。以现在的技术手段和硬件设备根本没法实现原子排序。从193nm水层浸润式光刻机到13.5nm锡滴技术光刻机，实际上是在物理结构走到了极限。要想实现0.1nm这种原子等级的集成电路，必须要有新一代技术及新材料才有可能，可惜目前还没有。
3. euv光刻机中国有几台
6纳米。
光刻机，简单来说就是用来制造芯片的机器。现在最主要的两种光刻机就是EUV光刻机和DUV光刻机。ASML公司向我国提供的光刻机主要就是EUV光刻机，其制作的芯片主要应用于手机、电脑等常见电子产品。
拥有13亿人口的我国，是电子产品的消费大国。如此庞大的人口红利催生出了庞大的工业产业链，也孕育出了强大的国产品牌，比如华为，小米等。制造电子产品最为核心的技术就是芯片。
由此可见，芯片作为电子设备制造的上游产品有着非常重要的作用。我国虽然近几年电子产品制造业迅猛发展，但是芯片的研发制造技术还没有完全突破。
4. euv光刻机概念股
荷兰生产的。
阿思迈光刻机就是荷兰ASML公司 ，中文名称为阿斯麦尔（中国大陆）、艾司摩尔（中国台湾）。这是一家总部设在荷兰埃因霍芬的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。阿思迈是9唯一的euv光刻机目前处于全球垄断地位。
5. euv和duv区别
两者光源波长不同。
arf和krf光刻机最大区别是光刻机的光源波长不同，其中krf波长为248nm，arf波长为193nm，arf光刻机的分辨率更好，技术含量更高。arf和krf都属于深紫外光范畴，也都是duv光刻机应用光源，但是光源技术上相差一代。另外，由于光源波长不同两者的光刻胶也不能通用。
6. euv光刻机进入中国
目前全球仅有一家厂商能够生产EUV光刻机，是荷兰的ASML公司。