1. euv光刻机和普通光刻机
有euv光刻机、duv光刻机等种类。
光刻机按不同类型可分为不同种类，比如接触式光刻机、直写式光刻机、投影式光刻机、干法光刻机、浸润式光刻机等，这些是使用方式分类。常见的分类还有光源分类，比如高端euv极紫外光光源光刻机、duv深紫外光光源光刻机、i线光刻机、g线光刻机，还有krf、arf光刻机等。
2. euv光刻机有什么用
十年。
一台光刻机的寿命也不仅仅在于一两代芯片，如果用193nm深紫外光刻机也是可以做到10nm乃至7nm芯片的生产的，只是工艺难度实现起来相对复杂，成本较高，比如采用自对准四次成型技术，就可以得到更加致密的结构，不过因为芯片层级的工艺变得复杂，需要更多掩模版和材料，所以用193nm光刻机生产7nm芯片非常不划算，所以到了这个程度必须上EUV光刻机。
3. euv光刻机中国
是duv光刻机和euv光刻机的区别，有代差。
国产光刻机目前是属于duv深紫外光光源光刻机，其光源波长为193纳米，也叫arf光刻机，是第四代光源光刻机。而euv光刻机是13.5纳米极紫外光光源光刻机，属于第五代光源光刻机。国产光刻机目前最高制程可以达到28纳米，目前处于待量产阶段。国产光刻机和euv光刻机有代差。
4. 中国的euv光刻机
暂时没有新突破。
我国目前光刻机最新的是上海微电子去年底通过技术检测和验证的28纳米duv光刻机，预计今年可以量产。对于euv极紫外光光刻机，目前暂时还没有新的突破，像中科院的euv光源、长春国科精密的曝光系统、长春光机所的镜头组目前还无法达到euv等级。
5. 什么是EUV光刻机
不是国产，目前能生产euv光刻机的只有荷兰asml