1. 世界上几台光刻机
1961年推出第一台光刻机，型号:第一代971型号。
早在1961年，David Mann公司就已经在市场上推出了一台光刻机。这台机器有些瑕疵，但在当时足以用来制造晶体管。使David Mann公司加快发展步伐的不是工程师和学者，而是数十名客户用他们的具体问题促使精密仪器工程师去改进机器。
公司:David Mann（被GCA收购成为其子公司）
价格:30000美金
时间:1961年
型号:第一代971型号，1962年推出了1080型
名称: Photorepeater（重复曝光机）
精度:1微米（1纳米的1千倍）
特点:需要人不断手动操作调节来实现准确定位。
2. 世界上总共有多少台光刻机
主要参与的国家有17个。
荷兰阿斯麦尔光刻机是由四十几个国家参与研发和投资的，总共800多家零部件供应商，其中主要零部件供应商大约有17个，其中美国cymer公司为euv光刻机光源供应商，德国蔡司为光学镜头组供应商，台湾提供精密线材，日本的掩膜板、涂布显影设备等。
3. 世界上唯一一台光刻机
没有0.1纳米光刻机这种东西。
目前全球最先进的光刻机是荷兰阿斯麦尔公司生产的13.5纳米极紫外光光刻机，也就是euv光刻机。这是全球唯一高端光刻机机型，其卖给三星和台积电的euv光刻机，加工制程目前流片的已经达到3纳米精度，这是人类目前加工的最小精度。你说的0.1纳米光刻机目前没有被造出来，而且以目前的技术也远达不到这个要求。1纳米是4个原子大小，这0.1纳米比原子还小，人类没这技术。
4. 世界有几台光刻机
没有国家能造
光刻机被誉为“现代光学工业之花”，号称比研制原子弹还困难！全球只有3个国家能造。在全球高端光刻机市场，荷兰达到全球领先水平，除了荷兰，日本、中国也可以制造光刻机。但我国一直被西方国家牢牢“卡脖子”，至今都没能突破尖端技术。
5. 世界上几台光刻机发明
1947年，贝尔实验室发明第一只点接触晶体管。从此光刻技术开始了发展。
1959年，世界上第一架晶体管计算机诞生，提出光刻工艺，仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片。
1960年代，仙童提出CMOS IC制造工艺，第一台IC计算机IBM360，并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线，美国GCA公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。
1970年代，GCA开发出第一台分布重复投影曝光机，集成电路图形线宽从1.5μm缩小到0.5μm节点。
1980年代，美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机，集成电路图形线宽从0.5μm缩小到0.35μm节点。
1990年代，Cano着手300mm晶圆曝光机，推出EX3L和5L步进机；ASML推出FPA2500，193nm波长步进扫描曝光机。光学光刻分辨率到达70nm的“极限”。
2000年以来，在光学光刻技术努力突破分辨率“极限”的同时，NGL正在研究，包括极紫外线光刻技术、电子束光刻技术、X射线光刻技术、纳米压印技术等。
与此同时，荷兰光刻机巨头阿斯麦ASML，占据了63%的市场份额，产品集中在中高端的极紫外光刻EUV和深紫外光刻DUV上。
然而在2004年前，尼康是当之无愧的带头大哥，尼康一直将光刻机作为自己的核心产品，也是让日本企业引以为傲的“民族之光”，甚至当年能到尼康从事光刻机的研发一度成为众多日本大好青年的愿景。
再看ASML的基础并不好。从1984年诞生后的20年，ASML就一直是一个谜一样的存在，没有什么人会觉得ASML能够有什么未来，甚至包括他们自己。
早期ASML还叫做ASM，生存无望，之能找人投奔，后来飞利浦动了恻隐之心，在总部大厦旁边的空地上给ASML弄了几个简易厂房，ASML当时很艰苦，能活20年全靠日积月累出来的“销售手艺”。
魔幻的是，这点“手艺”居然成为了日后ASML登顶的关键。
苦苦支撑20年，ASML终于等待了他们第一个贵人——台积电鬼才林本坚，一个可以比肩张忠谋的人物。如果说张忠谋缔造了台积电的前20年，林本坚就为台积电的后二十年挣下了巨大的家当。
林本坚1942年出生于越南，中国台湾人，祖籍广东潮汕。林本坚1970年获得美国俄亥俄州立大学电机工程博士学位，2008年当选美国国家工程学院院士。在加入台积电之前，林本坚在IBM从事成像技术的研发长达22年，是当时世界无二的顶级微影专家。
2000年，林本坚在当时台积电研发长蒋尚义的邀请下加入台积电，开启了真正“彪悍的人生”。
在IBM最后几年，林本坚其实已经看到了傲慢的IBM在微影领域的大厦将倾。他希望IBM能够给予他当时微影部门所研发的X光光刻技术1/10的经费，用来“做点东西”，然而IBM因为其华人的身份，并不打算买账。
后来林本坚回忆说：“我判断到65纳米（干式光刻）阶段时，让我再往前看三代的话，我就已经看不到了。”
于是在众多人陷入X光光刻技术无法自拔的时候，林本坚义无反顾地投入了浸润式光刻技术的研究中。
终于在2002年，已经加入台积电的他研究出以水作为介质的193纳米浸润式光刻技术。也就是在2002年，冥冥之中宣告了过往干式光刻机的死刑。
浸润式光刻技术让摩尔定律继续延伸，后来台积电也因此领先竞争对手超过5年。
然而任何一项颠覆式新技术的出现，总会受到来自于传统势力巨大的阻力。林本坚的浸润式光刻，几乎被尼康、佳能、IBM等所有巨头封杀，尼康甚至向台积电施压，要求雪藏林本坚。
巨头的陨落，总是如出一辙。当年1947年12月，大名鼎鼎的美国贝尔实验室的肖克利（“晶体管之父”）、巴丁和布拉顿共同研制出了一种点接触型的锗晶体管！（三人因此获得了1956年的诺贝尔物理学奖）