1. 光刻机到底是什么东西
一、难度:光刻机难，刻蚀机难。
原理:光刻机打印图纸，刻蚀机根据打印的图案蚀刻掉有图案/无图片的部分，剩下的留下。
第三，流程操作不同
(1)掩模版对准:利用光化学反应原理和化学物理刻蚀方法，将掩模版上的电路图形转移到单晶的表面或介质层上，形成有效的图形窗口或功能图形。在晶圆表面，电路设计图案直接由光刻技术决定，因此光刻技术也是芯片制造中的核心环节。
(2)、刻蚀机:通过化学和物理的方法，将显影后的电路图永久准确地留在晶圆上，选择性地去除硅片上不需要的材料。有两种蚀刻方法，湿法蚀刻和干法蚀刻。
光刻机又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。
通常，光刻工艺须经历清洗和干燥硅片表面、涂底漆、旋涂光刻胶、软烘烤、对准曝光、后烘烤、显影、硬烘烤和蚀刻的过程。
刻蚀机等离子，又称等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子刻蚀机、等离子表面处理器、等离子清洗系统等。
等离子蚀刻是较常见的干法蚀刻形式。其原理是暴露在电子区的气体形成等离子体，产生的电离气体和释放的高能电子组成的气体形成等离子体或离子。当电离的气体原子被电场加速时，它们会释放出足够的力，紧紧地附着在材料上，或者利用表面斥力刻蚀表面。
2. 光刻机是个啥
最高可能是院士待遇。
如果有人能造出了光刻机，可能会有院士待遇。光刻机是目前人类光电设备中最复杂、技术最尖端的大型设备。高端euv光刻机接近十万个零部件，内部分为光电学、机械、化学等很多学科，根本不可能是单个人员或部门能独立制造的。即使单个零件组的研发和制造也都是一批顶尖人才在做，比如中科院，其领衔人物基本都是院士级别的。真有人能造出光刻机那都是科技巨头，给个院士待遇完全没问题。
3. 光刻机是干嘛的?
光刻机的作用是蚀刻芯片的功能及线路，当然也包括了制造处理器这样的大规模集成电路或者内存颗粒、闪存颗粒等等。--光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴芯片；以及利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。
4. 光刻机是干嘛用的
一、用途
光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。
用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。
二、工作原理
在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。
5. 光刻机到底是什么东西做的
光刻机的研发离不开中国的这三项技术。
其一就是激光通讯技术，目前激光通讯技术已经被广泛应用于通讯电子方面、卫星通讯以及半导体领域中，它主要靠着单色性好、方向性强、光功率集中、难以窃听、本钱低以及安装快的特点。之所以与光刻机有关，主要原因在于他可以通过这个技术制造出光学元件。
其二就是光学元件，目前EUV光刻机中所必备的一个零件就是由激光通讯技术制造出来的光学元件零件，到如今，ASML公司已经从我国进口这项零件已经将近10年多的时间了。
从这一方面来看，其实他们对于中国技术的依赖也很深，而前段时间，ASML公司的副总裁也宣布将会在中国加大研发投资，从这一方面来看，那些包括高通等美科技公司对于国内市场的依赖也很深。
其三，就是MENS设备，这一台是由中国福建研究院进行研发出来的，这其中就要运用到微控流技术，而这项技术目前只有我国做到了掌控。