1. 荷兰光刻机是做什么的
光刻机是顶级科技的合成体，也就是说光刻机决定着现代科技技术先进程度，光刻机是制造纳米芯片的核心设备，没有光刻机那就是没有高端芯片，世界上顶级光刻机就是荷兰生产组装的光刻机，很多人都在百思不得其解，为什么荷兰这样一个小国家能生产出世界最顶级的光刻机，荷兰的技术难道比英美日法德还先进吗？
从光刻机的角度来说能独自生产的国家有好几个，但是能独自做到最顶级的目前没有，就算是美国日本都独自做不出来，而荷兰却生产出来了最先进的光刻机，是怎么做到的，其实原因在于荷兰只是在组装完成光刻机，并不是自己独自研制生产，现在这个最先进的光刻机是一个万国牌的组装产品，各种零配件世界各科技强国提供。
现在世界上最先进的光刻机是荷兰的ASML，其次就是日本的NIKON和日本的CANON，这三个品牌是世界上最好的了，荷兰的最好，因为荷兰的是各国高科技的合成产品，最主要的光源和镜头来自德国，荷兰的光刻机90%的零配件是全世界采购，一台光刻机的配件超过五万的零件，90%的配件来自全世界，也就是说约四万五千个零件来自世界各地。
再者荷兰这家光刻机公司跟世界多家大公司有利益关系，跟三星，台积电 ，英特尔，高通，海力士等等都有利益，这些企业在荷兰光刻机公司都有可观的股份，全世界一大半的电子产业公司跟这家光刻机有利益关系，这些公司为荷兰公司提供资金支持，所以这家公司向来不缺钱，可以采购最好的产品用来组装，不过核心技术荷兰也掌握有。
全世界只有这家公司可以生产7纳米及以下的光刻机，日本的光刻机生产公司也做不到，可以说全世界独此一家别无分号，美国科技水平非常的先进，美国也单独做不出来这样先进的光刻机，并不是美国不能研制光刻机，而是做不到荷兰这家公司的这个程度，日本也一样，我们也一样做不到这样的水平，但是我们做到了20纳米的水平，还需要时间去追赶。
2. 荷兰光刻机是做什么的呢
荷兰最好的光刻机是阿斯麦尔公司生产的High-NA量产型EUV光刻机EXE:5200，价值3.4亿美元。
英特尔宣布向荷兰光刻机制造商ASML预订了一台仍在设计中的顶级EUV光刻机，为业界首家。这台光刻机型号为High-NA量产型EUV光刻机EXE:5200，是业界最强的光刻机。
据悉，由于台积电、三星、英特尔三大巨头在晶圆制造领域的竞争，导致EUV光刻机需求大增。同时，这款瞄准下一代3nm/2nm级别工艺的High-NA量产型EUV光刻机，堪称天价。
台湾媒体消息称，英特尔预定的这台光刻机，价格达到3.4亿美元，是历史上最昂贵的光刻机。
3. 荷兰光刻机技术哪来的
1947年12月，大名鼎鼎的美国贝尔实验室的肖克利（“晶体管之父”）、巴丁和布拉顿共同研制出了一种点接触型的锗晶体管！（三人因此获得了1956年的诺贝尔物理学奖）
自此以后，光刻技术才有了发展的契机！
……
1958年，德州仪器的杰克·基尔比（集成电路的两位发明人之一）提出并发明了锗基底扩散工艺的集成电路！（2000年，杰克·基尔比因集成电路的发明被授予诺贝尔物理学奖，这是一个“迟到”了42年的诺贝尔物理学奖）
如果没有杰克·基尔比，就很难有如今的半导体产业盛况，电脑、手机等电子产品不知道牛年马月才能进入每一个家庭！
1959年，仙童半导体的罗伯特·诺伊斯（英特尔创始人之一）发明了硅基底平面工艺的集成电路！
由于硅集成电路变成了集成电路市场的主流，罗伯特·诺伊斯与杰克·基尔比，一起被誉为“集成电路之父”！
……
1956年，美国贝尔实验室用晶体管代替电子管，制成了世界上第一台全晶体管计算机！
随后，仙童半导体研制出了世界上第一个适用单结构硅晶片。
20世纪60年代，仙童半导体提出了CMOS IC（集成电路）制造工艺；
IBM研制出了第一台IC（集成电路）计算机IBM360；
美国GCA公司（美国地球物理学公司）开发出了光学图形发生器和分布重复精缩机！
……
20世纪70年代，GCA开发出第一台分布重复投影曝光机（光刻机）！
20世纪80年代，SVGL（美国硅谷集团光刻系统公司）开发出了第一代步进扫描投影曝光机（光刻机）！
1995年，日本佳能Cano研制出了300mm晶圆曝光机（光刻机）！
随后，阿斯麦ASML推出步进扫描曝光机（光刻机），采用的是193nm的波长！
2012年，为了推进EUV极紫外光刻机等先进设备的研制，阿斯麦ASML推出了“客户联合投资专案”，英特尔、台积电、三星成为了股东，分别持有15%、5%、3%左右的股权！
4. 荷兰光刻机是什么东西
euv光刻机是荷兰阿斯麦尔生产的，但其核心技术起源于美国EUV LLC联盟。
阿斯麦尔收购了很多光刻机的核心技术以及掌握核心技术的公司。比如在过去的十年里，ASML收购了光刻机激光器的供应商Cymer。实际上Cymer是EUV光源的开发者，这对于生产最先进的光刻机来说是非常关键的。此外，英特尔是EUV LLC联盟的创始人之一，他们认为获得EUV这种新技术是芯片尺寸继续缩小的必要条件，这就是他们创立EUV LLC联盟的原因。美国很多公司都是LLC联盟的一部分，他们请ASML研发这项技术，是因为他们想把芯片技术向前推进。如果ASML研究该技术，他们会提供资金支持。如果ASML成功地制造出了机器，他们也会购买。
5. 刻光机 荷兰
DUV光刻机的许多专利技术已经慢慢到期，也就是说，在不久之后，其他国家也能够根据相关的专利技术进行DUV光刻机的生产。因此，ASML公司必须要在专利技术到期之前赶紧发挥出这类光刻机的剩余价值。一旦专利技术到期，DUV光刻机会面临着较大的减值风险。
属于发明专利的，专利终止日期是二十年；侵没式DUV光刻机技术专利2022年—2023年到期，EUV专利技术2031年—2039年到期，专利到期后国产光刻机才会官宣。
6. 荷兰光刻机是做什么的公司
究竟什么是光刻机呢，它主要做什么？
我们来看，光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术，它又叫掩模对准曝光机，光刻系统等，用光来制作一个图形工艺，将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时复制到硅片上的过程，它主要的光刻工艺经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
换句话说，光刻机其实就是制造芯片的机器，比如现在的手机电脑都有芯片，如果没有光刻机，那么就造不出电脑和手机了。
目前，在全世界范围内，有能力生产光刻机的企业只有寥寥可数的几家，能自主研发生产芯片的光刻机企业也就日本的佳能、尼康和荷兰的ASML公司，即便是科技最发达的美国，目前也不能独自完整生产出光刻机，只能参与控股ASML。
目前全世界最顶级的光刻机是荷兰ASML公司生产制造，佳能和尼康只能生产相对低一点的光刻机，甚至目前佳能、尼康已经在逐步淡出市场。在技术方面，ASML目前领先全球，光刻机可以使用波长为13.5纳米的极紫外光（EUV），实现14纳米、10纳米、和7纳米制程的芯片生产，而通过技术升级，也可以实现9纳米，8纳米，6纳米，5纳米，4纳米乃至3纳米等制程的芯片生产。