1. 中国哪家公司有光刻机
声光电科不生产光刻机。
声光电科并不生产光刻机。声光电科的业务范围是电子元器件制造，集成电路设计，集成电路制造，集成电路销售，电力电子元器件销售，计算机系统服务，电子产品销售，5G通信技术服务等，并没有生产光刻机或零部件业务。而且国内唯一一家能够制造光刻机的企业是上海微电子。
2. 国内哪些公司有光刻机
科华微电子公司。
科华微电子公司是国内最大拥有并正常使用荷兰ASML光刻机的光刻胶公司。
定增用于智能制造生产研发基地建设项目、光刻机产业化项目。
公司光刻机产业化项目建成后主要用于生产光刻机成套装备，公司具备将业务延伸拓展至光刻机产线整体解决方案的技术实力。
3. 光刻机最大的公司
芯源微688037：光刻机龙头股。
作为与光刻机配合进行作业的关键处理设备，公司生产的涂胶/显影机成功打破国外厂商垄断并填补国内空白，其中在LED芯片制造及集成电路制造后道先进封装等环节，作为国内厂商主流机型已成功实现进口替代；通过多年的技术研发、实践应用积累以及持续承担国家02重大专项，公司成功突破了应用于集成电路制造前道晶圆加工环节的涂胶显影设备技术，成型产品目前正在长江存储、上海华力等前道芯片制造厂商进行工艺验证。
4. 中国哪家公司有光刻机产品
1、大族激光（002008），最新股价39.35元，总市值419.89亿：2021年6月17日公司在互动平台称：公司在研光刻机项目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用，今年有望实现小批量销售。
2、张江高科（600895），最新股价16.40元，总市值253.99亿：2021年3月，公司在互动平台表示，上海张江浩成创业投资有限公司2021年投资了上海微电子装备有限公司22，345万元，投资比例为10.779%。
3、晶方科技（603005），最新股价55.50元，总市值188.34亿：2021年6月，公司在互动平台表示，荷兰光刻机制造商ASML为公司参与并购的荷兰Anteryon公司的最主要客户之一。Anteryon为全球同时拥有混合镜头、晶圆级微型光学器件工艺技术设计、特性材料及量产能力的技术创新公司，其产品可广泛应用于半导体精密设备、工业自动化、汽车、安防、3D传感器为代表的消费类电子等应用领域。
4、赛微电子（300456），最新股价21.39元，总市值136.71亿：2021年6月，公司在互动易平台披露：公司一直为全球光刻机巨头厂商提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务。ASML为公司商业合作伙伴。公司瑞典与北京分别拥有数台光刻机；瑞典产线2021-2021年产能利用率一直保持在80%以上的高水平
5、万业企业（600641），最新股价13.92元，总市值133.34亿：全资子公司凯世通采取“领先一步”的策略、采用有国际竞争力的设计理念，着力研制16纳米及以下制程的FinFET集成电路离子注入机，并针对研制低能大束流离子注入机所需要解决的关键技术和技术难点，建立起相应的研发平台、相关核心关键技术及工艺的研究参数数据库和性能检测规范标准。2021年凯世通的低能大束流离子注入机迁机成功，顺利进入离子注入晶圆验证阶段。参股公司上海半导体装备材料基金持有华卓精科2.08%股权。
6、上海新阳（300236），最新股价41.58元，总市值120.85亿：2021年2月，公司在互动易平台表示，中芯国际是公司的主要客户之一。2021年2月，公司在互动易平台披露，公司KRF光刻机能支持96层3DNAND用光刻胶研究，及250nm、130nm工艺制程逻辑电路用光刻胶研究。公司正在加快开发第三大核心技术——光刻技术，在集成电路制造用ArF干法、KrF厚膜胶、I线等高端光刻胶领域已有重大突破。同时，积极布局半导体硅片、半导体湿法工艺设备、平板液晶显示用光刻胶等业务领域。
7、南大光电（300346），最新股价28.13元，总市值114.46亿：超募资金投资”ArF光刻胶产品的开发与产业化”项目。
8、飞凯材料（300398），最新股价15.60元，总市值80.47亿：公司从事PCB光刻胶专用化学品。
9、*ST胜利（002426），最新股价2.08元，总市值71.58亿：胜利精密计划募资不超过20亿元，投向光刻机产业化。
10、华特气体（688268），最新股价57.49元，总市值68.99亿：华特气体是特种气体龙头企业。
5. 中国哪家公司有光刻机研发
工业能力是一个国家国防实力和经济实力的基础，而光刻机是现代工业体系的关键部分，不过目前荷兰光刻机是最有名的，出口到全球各国，口碑很好。那光刻机是谁发明的？主要用途有哪些呢？
1959年，世界上第一架晶体管计算机诞生，提出光刻工艺，仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片，1960年代，仙童提出CMOSIC制造工艺，第一台IC计算机IBM360，并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线，美国GCA公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。
光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备，用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序，其中以光刻工序最为关键，因为它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标。
目前，全球最顶尖的光刻机生产商是荷兰ASML、Nikon、Canon和上海微电子（SMEE），其中ASML实力最强，因此全球多数国家都愿意去这家公司进口光刻机。