1. 中国光刻机曾经领先
中国的光刻机都不先进 ，何况湖南 呢？
改变光刻机落后的情况， 是我们这一代人 甚至下一代人为之奋斗的目标 ！
我想湖南光刻机落后也只是暂时的 ，通过大家的努力 势必会有质的飞跃 ！到那时候 中国人就不会因为芯片受制于人 ，中国加油 ！湖南加油 ！
2. 中国光刻机曾经领先过吗
成功了。
国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体(中国)有限公司的“光刻机”技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平。
3. 中国最新光刻机水平
突破了！
28nm光刻机是真的生产出来了。
目前我国的中国电科、上海微电子和长春光机所三个机构接到研发光刻机的任务。上海微电子也是在去年正式推出了28纳米DUV光刻机，长春国科也正向28纳米节点的光学系统攻光，也是预计在今年将取得新突破。上海微电子将在今年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机，这代表着国产光刻机最先进的技术水平，国产光刻机在大幅缩短与海外的技术差距。
4. 中国光刻机水平最高技术公司
根据其官网介绍，当前最先进的光刻机当属600系列光刻机，最高的工艺制程能够达到90nm。通过对比不难发现，国内光刻机与ASML公司之间差距巨大。据相关消息透露，2021年至2022年将会交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。
光刻机内部涉及精密元器件较多，即便是ASML公司也是通过全球采购来解决该问题，例如美国的光源，德国的镜头等。短期内，国内光刻机企业想要追赶上ASML公司并不现实。国产光刻机短期内无法赶超，芯片代工企业能否提供助力呢？
5. 中国目前光刻机
能量产14纳米芯片。2022年中国光刻机能生产14纳米芯片。目前我国芯片制造工厂最高可以批量生产14纳米芯片，而技术上可以生产7纳米芯片，不过目前良品率不高无法量产。