台积电的光刻机(台积电的光刻机是谁的)

海潮机械 2023-02-01 07:46 编辑:admin 60阅读

1. 台积电的光刻机是谁的

台积电。

海思芯片是台积电代工生产的,海思芯片由华为设计,制造芯片需要光刻机,台积电具有先进的光刻机,海思麒麟芯片主要用于手机和平板产品,海思芯片有如此高的性能,和研发投入有关,华为每年都在增大研发投入。

2. 台积电有光刻机吗

目前台积电一共有80台EUV光刻机,而一台EUV光刻机设备一天就需要消耗3万度电。在全球半导体芯片市场不景气的背景下,一味追求高性能芯片的产能,也是非常不明智的选择。

也正是因为台积电取消N3工艺和停用部分EUV光刻机设备,外媒才说台积电开始撑不住了

3. 台积电有光刻机吗?

答案是肯定的,他们有euv光刻机。

台积电展示了一张幻灯片,指出了它与其他产品的相对位置:通过结合ASML的声明和自己的内部采购单,台积电预测他们已安装了全世界约约50%的激活EUV机器。除此之外,该公司还拥有约60%的EUV晶圆累计生产量。

4. 台积电的光刻机是谁的产业

1947年,贝尔实验室发明第一只点接触晶体管。从此光刻技术开始了发展。

1959年,世界上第一架晶体管计算机诞生,提出光刻工艺,仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片。

1960年代,仙童提出CMOS IC制造工艺,第一台IC计算机IBM360,并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线,美国GCA公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。

1970年代,GCA开发出第一台分布重复投影曝光机,集成电路图形线宽从1.5μm缩小到0.5μm节点。

1980年代,美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机,集成电路图形线宽从0.5μm缩小到0.35μm节点。

1990年代,Cano着手300mm晶圆曝光机,推出EX3L和5L步进机;ASML推出FPA2500,193nm波长步进扫描曝光机。光学光刻分辨率到达70nm的“极限”。

2000年以来,在光学光刻技术努力突破分辨率“极限”的同时,NGL正在研究,包括极紫外线光刻技术、电子束光刻技术、X射线光刻技术、纳米压印技术等。

与此同时,荷兰光刻机巨头阿斯麦ASML,占据了63%的市场份额,产品集中在中高端的极紫外光刻EUV和深紫外光刻DUV上。

然而在2004年前,尼康是当之无愧的带头大哥,尼康一直将光刻机作为自己的核心产品,也是让日本企业引以为傲的“民族之光”,甚至当年能到尼康从事光刻机的研发一度成为众多日本大好青年的愿景。

再看ASML的基础并不好。从1984年诞生后的20年,ASML就一直是一个谜一样的存在,没有什么人会觉得ASML能够有什么未来,甚至包括他们自己。

早期ASML还叫做ASM,生存无望,之能找人投奔,后来飞利浦动了恻隐之心,在总部大厦旁边的空地上给ASML弄了几个简易厂房,ASML当时很艰苦,能活20年全靠日积月累出来的“销售手艺”。

魔幻的是,这点“手艺”居然成为了日后ASML登顶的关键。

苦苦支撑20年,ASML终于等待了他们第一个贵人——台积电鬼才林本坚,一个可以比肩张忠谋的人物。如果说张忠谋缔造了台积电的前20年,林本坚就为台积电的后二十年挣下了巨大的家当。

林本坚1942年出生于越南,中国台湾人,祖籍广东潮汕。林本坚1970年获得美国俄亥俄州立大学电机工程博士学位,2008年当选美国国家工程学院院士。在加入台积电之前,林本坚在IBM从事成像技术的研发长达22年,是当时世界无二的顶级微影专家。

2000年,林本坚在当时台积电研发长蒋尚义的邀请下加入台积电,开启了真正“彪悍的人生”。

在IBM最后几年,林本坚其实已经看到了傲慢的IBM在微影领域的大厦将倾。他希望IBM能够给予他当时微影部门所研发的X光光刻技术1/10的经费,用来“做点东西”,然而IBM因为其华人的身份,并不打算买账。

后来林本坚回忆说:“我判断到65纳米(干式光刻)阶段时,让我再往前看三代的话,我就已经看不到了。”

于是在众多人陷入X光光刻技术无法自拔的时候,林本坚义无反顾地投入了浸润式光刻技术的研究中。

终于在2002年,已经加入台积电的他研究出以水作为介质的193纳米浸润式光刻技术。也就是在2002年,冥冥之中宣告了过往干式光刻机的死刑。

浸润式光刻技术让摩尔定律继续延伸,后来台积电也因此领先竞争对手超过5年。

然而任何一项颠覆式新技术的出现,总会受到来自于传统势力巨大的阻力。林本坚的浸润式光刻,几乎被尼康、佳能、IBM等所有巨头封杀,尼康甚至向台积电施压,要求雪藏林本坚。

巨头的陨落,总是如出一辙。当年1947年12月,大名鼎鼎的美国贝尔实验室的肖克利(“晶体管之父”)、巴丁和布拉顿共同研制出了一种点接触型的锗晶体管!(三人因此获得了1956年的诺贝尔物理学奖)

5. 台积电用的光刻机是哪里的

荷兰的光刻机技术强大主要靠ASML,ASML成立于1984年,由飞利浦与先进半导体材料国际(ASML)合资成立,总部位于荷兰的费尔德霍芬。1995年,ASML收购了菲利普持有的股份,称为完全独立的公司。

目前全球只有一家企业在光刻机市场上占据了80%的份额,就是处于荷兰的ASML,旗下所研发的EUV光刻机曾售价高达1亿美元一台,而且还不一定有货。皆因每台光刻机的装配大约需要50000个零件左右。国际上著名的芯片制造商如Intel、台积电、三星都是它名下的股东。

阿斯麦公司ASML Holding NV创立于1984年,是从飞利浦独立出来的一个半导体设备制造商。前称ASM Lithography Holding N.V.,于2001年改为现用名,总部位于荷兰费尔德霍芬,全职雇员12,168人,是一家半导体设备设计、制造及销售公司

6. 台积电用的是什么光刻机

台积电代工,荷兰的光刻机。