1. 国产光刻机突破28纳米
国产光刻机没有22纳米的。
国产光刻机目前并没有22纳米的。目前国内唯一能够制造光刻机的公司是上海微电子，也是全球四家能够制造光刻机的公司之一。上海微电子目前能量产的光刻机是90纳米干式光刻机，而技术上已经可以28纳米光刻机，目前处于待量产阶段，但并不能制造22纳米光刻机。
2. 中国光刻机的新突破28纳米
暂时没有新突破。
我国目前光刻机最新的是上海微电子去年底通过技术检测和验证的28纳米duv光刻机，预计今年可以量产。对于euv极紫外光光刻机，目前暂时还没有新的突破，像中科院的euv光源、长春国科精密的曝光系统、长春光机所的镜头组目前还无法达到euv等级。
3. 国产光刻机突破28纳米突破荷兰降价出售光刻机
能制造duv光刻机的有荷兰、日本、中国。
目前仅有荷兰阿斯麦尔公司能制造高端euv光刻机，并能制造中低端duv光刻机。而日本的佳能和尼康可以制造duv光刻机。中国的上海微电子目前能制造90纳米光刻机，预计年底能投产28纳米光刻机。而荷兰euv光刻机由于美国的制裁，禁止出口给中国。
4. 中国28纳米光刻机突破
中国顶尖光刻机就是上海微电子的，没有其他排名。
我们国家光刻机是以上海微电子装备有限公司（SMEE）和中科院以及武汉光电国家研究中心为代表。SMEE的光刻机目前来说它有四大系列，分别是200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机。这些系列机器仅能够做出90nm工艺的芯片，与国外先进的7nm工艺，甚至更为先进的5nm工艺的光刻机还差很多。上海微电子预计年底能完成首台28纳米光刻机。
5. 国产光刻机突破22纳米
来源是荷兰阿斯麦尔公司的光刻机。
中芯国际14nm光刻机的来源是荷兰阿斯麦尔公司。准确点说并不是14纳米，而是28纳米光刻机，14纳米是中芯国际的量产芯片制程，而不是光刻机的精度。作为duv光刻机最高也就是28/22纳米精度。荷兰阿斯麦尔光刻机目前几乎处于全球垄断地位，市场占有率高于90%，中芯国际的光刻机也是荷兰阿斯麦尔公司的。
6. 中国自主研发的光刻机22纳米
中国几年前还不能生产光刻机，因为当时中国能从国际市场上购买，所以说中国也没有想着自己制造，毕竟光刻机技术太复杂，就连荷兰的阿斯麦尔生产的光刻机还需要好多国家的专利技术。
这二年因为美国为首的西方制裁中国，不买光刻机给我们，没办法中国只能自力更生，自己生产，不过高端光刻机暂时我们还不能生产，以后会有的，因为我们一直在努力。
7. 国产28nm光刻机进展
可以生产10nm芯片。
28nm光刻机可以生产10nm芯片。在没有euv光刻机的年代，台积电利用28nm光刻机就已经能够生产7nm芯片了，所以生产10nm完全没问题。其原理大致是通过对晶圆多次曝光多次蚀刻达到更高制程。国内比如中芯国际现在也可以生产10nm芯片。