1. 荷兰光刻机卖给中国了没有?
光刻机运输要用特种运输车，特别包装，防振，小心运输：
1、气垫运输，光刻机运输中需要保证全程加气垫，避免因为震动而使内部遭到破坏。
2、真空木箱打包，因为光刻机运输要保持全程恒温恒压，所以要使用真空木箱打包技术。
3、恒温气垫车运输，光刻机运输过程中，温度要保持在26度，湿度要保持在40度，因此要用特种运输车辆来运输。
2. 荷兰不卖光刻机
荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机售价大约1.5亿欧元，不过要说明的是并没有5纳米光刻机，euv光刻机目前处于第一代，也就是13.5纳米极紫外光光源波长本身就是euv光刻机的精度，只不过台积电和三星通过技术使其能够加工出5nm芯片甚至更高制程。荷兰阿斯麦尔euv光刻机非常昂贵，每台售价差不多1.5亿欧元。
3. 为什么荷兰光刻机不卖给中国
因为华为没有光刻机，虽然华为很尖端也在很多领域很先进，但华为还没有能力生产光刻机，但华为正在研究石墨芯片只要成功将有望远超荷兰阿斯麦光刻机。
光刻机（Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。
中文名
光刻机
外文名
Mask Aligner
别名
掩模对准曝光机
光源波长
350 nm -450 nm
作用
用光制作一个图形
4. 荷兰光刻机卖给中国了吗
中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径。
虽然ASML光刻机技术先进，但荷兰并不是一国之力就能制造的。 其中，光学仪器来自美国，透镜组件来自德国蔡司，另外5万个零件也依赖海外进口。
虽然中国已经突破了22纳米光刻机的技术，但与荷兰ASML公司的5纳米水平仍然有很大差距。 但是，技术总是从无到有，从有到优的过程，就像万事难以开始一样。 现在，国产光刻机已经有了良好的开端，相信不会让国民失望。 同时，中国在科技领域创造的奇迹已经不少了。
在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，使光束透过绘有电路图的掩模，用物镜补偿各种光学误差，将电路图按比例缩小映射到硅片上，用化学方法显影，刻在硅片上的电路图
5. 荷兰光刻机卖了几台给中国
14nm。
目前国内光刻机技术水平距离世界先进还有较大差距，特别是跟荷兰的阿斯麦这样顶尖的公司对比。所以先进制程的光刻机只能依靠进口，14nm的光刻机已经是目前可以获得的最先进光刻机。
7nm制程的光刻机，目前因为禁运原因，国内拿不到。14nm也不是想买就能买的。
6. 荷兰光刻机卖给中国了没有
ASML的成立很偶然，是另一家著名公司飞利浦，随手促成玩玩的，完全没指望他可以做大。
ASM的老板叫Arthur del Prado，毕业于哈佛商学院。毕业后回到荷兰创建了ASM。
他的目标，是在欧洲建立一座硅谷。
正好，当时光刻机门槛不高，飞利浦刚刚在实验室里研发出了自动化步进式光刻机的雏形，但这个雏形还不够成熟。
飞利浦拿着它去找业界老大，但无论是GCA还是P&E，都不愿意合作，瞧不上这个不成熟的东西。
ASM主动找上门来，想要寻求合作，但飞利浦又嫌弃ASM体量太小。
飞利浦这个光刻机高不成低不就的，就快砸手里了。
1983年，ASM在纳斯达克上市了。飞利浦意识到，这个ASM比自己想象中的似乎强不少。
于是，飞利浦再次找到ASM，打算给自己的光刻机找个接盘侠。
为什么说是接盘侠呢？
因为原本飞利浦和ASM谈的是，双方各出210万美金，成立一个合资公司ASML。
但真等到要拿钱出来的时候，飞利浦连这点钱也不愿意拿，硬是用一些还不太成功的库存PAS2000光刻机抵了180万美金。
换句话说，飞利浦真没觉得这生意能做大，就想借这个公司占一个坑观望观望。
事实上，初期的确如此。
ASML成立之初，只有31个员工，这31个员工就在飞利浦豪华玻璃大楼外面的小破木板平房里办公，连大楼都进不去，跟要饭的差不多，业绩也是极为惨淡。
1986年，半导体市场遭遇危机，整体来了个大滑坡，光是三星就在半导体上亏了3亿多美元！
连带着搞光刻机的厂商，也遭了殃。美国的GCA找不到买主被关闭，Ultratech被卖出去后还缩小了规模，P&E也被卖给了SVG……
美国三雄的地位，已经完全被尼康和佳能替代了。
而ASML本身规模小，想亏也没啥能亏的，尼康占据了高端的市场，原来的美国公司没了，反而让他们有了10%的市场占有率。
和尼康比起来，他们就是个小虾米。
但谁也没有想到的是，整个光刻机行业的发展瓶颈，给了ASML一个意外咸鱼翻身，反超尼康的机会！
尼康光刻机
2
ASML反超尼康的机会，来源于光刻机技术碰见困难了，前进不了，整个行业都卡那儿好多年了，前方堵车，此路不通。
困难是什么呢？
做芯片这件事，就是在硅上用刀雕花刻字，激光就是那个刻字的“刀”。
光源的波长数小了，刀更精致了，能加工的芯片自然而然也就更加精细了。
而全世界已经卡在193nm很久了，寸步难进。
当时的业界有好几个思路。
第一种，是以尼康为代表的157nm。这种做法的难度在于，157nm光会被现有193nm机器用的镜片吸收，相对应光刻胶也要重新研制。
重新研制问题也不大，但从193到157，这个进步实在是太小了，很有可能入不敷出。
以前，尼康因为镜头出色，而为自己打出了一片天地。而这时候，事事亲力亲为，成了它失败的原因。
由于要自己研发，慢，成了它的第一个弱点。同时，事事都做，就不可能事事都做得好。于是，尼康在研发过程中经常不是这里出了问题，就是那里有个毛病。
第二种，是将光源改为极紫外光EUV，它只有13.5nm，但难度更大，以当时的技术根本实现不了。
所以这两种思路在当时，都失败了。
这时候，台积电的一个叫做林本坚的工程师，提出了一个独树一帜的新思路：
只要在光刻胶上加一层水，激光入水折射，193nm不就一下变成134nm了吗？
但他的想法刚提出来的时候，根本就没有人买林本坚的账，甚至还有大公司高层找到台积电，希望有人管管林本坚，让他不要出来瞎搅合。
但林本坚没放弃，他找来找去，终于找到了ASML，愿意和他合作。
两家一拍即合。2004年，双方共同研发出了全球第一台浸润式光刻机！
尽管尼康也宣布157nm的样机研制成功了。但ASML的机器显然弯道超车了，更受欢迎。
光刻机的市场就那么大，这一场道路选错要了老命，尼康大输一阵！
如果说，尼康在市场占有率上的第一次被反超，还只是路线选择错误翻车了的话，那么后来差距的被进一步拉大，就完全是政治问题了。
林本坚的思路是一个取巧的办法，但彻底改变光源才是未来势必要走的一条路。
早在1997年，英特尔就和美国能源部牵头，拉了AMD、摩托罗拉等搞了一个前沿组织EUV LLC。
这个组织实力非常强大，成员囊括了美国劳伦斯利弗莫尔、劳伦斯伯克利和桑迪亚三大国家级实验室。
前后有近40个国家加入战团，欧美发达国家几乎悉数入局，是业内科研最为顶级的组织！
对于尼康和ASML来说，两个企业势必要拉一个进来。
然而，美国选择了ASML，尼康被排除在外了——美国怕尼康窃取自己的技术，也怕日本掌握核心技术不安全。
同时，ASML没少给美国承诺，立投名状。
EUV光刻技术比以往复杂了百倍：
光源需要重新来，镜头需要重新磨，光源的功率需要提升……总之，没近路可以抄。
日本尼康就是在科研上再厉害，也比不过全世界集体合作。
2009年，Cymer公司的EUV光源功率达到100W，接近商业化指标，成为了ASML的光源模组供应商。
终于，EUV光刻机研制成功。
前前后后算起来，钱还是其次，无数科研人员的精力和时间，是多少钱都买不来的。
一台EUV光刻机的重量超过180吨，整个光刻机的零配件超过10万件，而要想把这样的一台光刻机从出厂运到客户工厂中，至少需要40个集装箱！
仅仅是从安装到调试，就需要一年的时间。
和这样宏大的项目比起来，尼康力有未逮，和ASML的差距越拉越大，绝望得再也看不到翻盘的希望。
其实，不要说日本了，对全世界任何一个国家来说，ASML都是众星捧月的那个“月亮”，他一马当先，其他人都难以望其项背。
日本人曾经研究过ASML，他们发现，ASML的一台EUV光刻机有超过10万个零件，其中90%的零部件都依赖外购。
有美国Cymer的光源（2013年被ASML收购），有德国蔡司的顶级镜头，有英特尔的技术分配，有瑞典的轴承，有法国的阀件，等等等等……
ASML作为集大成者，自己需要做的主要是设计和组装，不需要管工厂生产。
换句话说，ASML作为顶级光刻机的背后，是全世界多个国家的顶尖技术的通力配合，整个人类上百年科技的结晶，更是全球化的产物。
如果中国的光刻机击败了ASML，不是中国单挑赢了荷兰，而是中国单挑赢了全世界。中国，加油！
7. 为什么中国买不到荷兰光刻机
因为光刻机制造芯片的过程中需要用到俄罗斯的惰性气体。
荷兰光刻机制造芯片的过程中会用到大量惰性气体。包括氖、氩、氙等稀有或惰性气体，在芯片制程过程中的重要性几乎无法取代。大到光刻机的生产，小到晶片的光刻封装，都离不开惰性气体的辅助。俄罗斯向全球供应的惰性气体，约占据了市场总份额的30%。此外，另一大供应商的乌克兰，位于马里乌波尔和敖德萨的工厂，也由于特殊的原因无法对外正常出货氖气。其实也不能说荷兰光刻机离不开俄罗斯，只是供需紧张