1. 中国可以制造光刻机吗
能够研发的，首先要相信自己的国家，自力更生，艰苦奋斗，从无到有，不让欧美西方国家卡脖子虽然光刻机的自主研发之路很困难，但是中国还是取得了很大成就的。2016年，上海微电就成功研发了90nm光刻机。2018年，中科院的超分辨光刻机设备研发成功，目前结合独特的双重曝光技术已经可以自主研发10nm芯片了。虽然10nm的芯片和目前世界上顶尖的芯片还有一段距离，但这总归是一个好的开始。
2. 中国能制造出光刻机吗?
答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！
3. 中国可以自己制造光刻机吗
中国几年前还不能生产光刻机，因为当时中国能从国际市场上购买，所以说中国也没有想着自己制造，毕竟光刻机技术太复杂，就连荷兰的阿斯麦尔生产的光刻机还需要好多国家的专利技术。
这二年因为美国为首的西方制裁中国，不买光刻机给我们，没办法中国只能自力更生，自己生产，不过高端光刻机暂时我们还不能生产，以后会有的，因为我们一直在努力。
4. 中国能够制造光刻机吗
1.双工件台华卓精科自2012年成立，用了10年的时间，在双工件台技术方面，取得了重大突破。2016年，华卓精科与清华大学共同研制出两套光刻机双工件台掩膜台系统α样机，并成功通过验收。2020年4月，华卓精科向上海微电子发货首台DWS双工件台，应用制程达到65nm；2021年6月，完成28nm制程ArFi光刻机的DWSi系列双工件台的详细设计，已在样机制造集成调试阶段。这项技术的重要性，不言而喻，加上华卓精科全世界只有两家拥有该技术。因此，攻破双工件台技术的壁垒，不仅打破了国外的技术垄断，更为国产光刻机的研发提供了技术保证。
2.光源系统技术国内研究光刻机的光源系统技术，属北京科益虹源最为成熟，也成功掌握了193nm ArF准分子激光器制造，可用于28nmDUV光刻机上。
5. 中国能自己制造光刻机吗
不能，在中国芯片制造被漂亮国“卡脖子”的时候，ASML总裁Peter Wennink曾经在一次科技会议上明确表示，“高端的EUV光刻机永远不可能（被中国）模仿。”
虽然说，皮特老板的话听起来不太顺耳，甚至有些打击我们的积极性和自信心，但是不得不说，人家能说出这一番话来，肯定是有人家的底气的。
6. 中国现在能制造光刻机吗
需要多久目前未知。
首先要知道目前全球还没有3nm光刻机，所谓3nm是指芯片的制程，而光刻机目前最高就是13.5纳米极紫外光光源波长euv光刻机。国产光刻机目前只能做到28纳米的duv深紫外光光源光刻机，而想要突破到euv这个等级的光刻机要多久还未可知。