1. 0.1nm光刻机能实现什么
90nm光刻机经过两次曝光，可以制成45nm的芯片，三次曝光后可以制成22nm的芯片。
但是曝光次数越多，芯片的良品率就越低，漏电率越高，所以大都用来制造28nm芯片。
再看ASML，EUV光刻机达到了13.5nm，三次曝光后可以制造3nm制程的芯片，领先上海微电子4代。
这样巨大的差距追赶起来难度是可想而知的。
90nm光刻机从研制成功到量产，打磨了整整11年。
2. 0.1nm光刻机能实现什么功能
应该是华虹半导体、长江存储等公司在用
上海微电子的90纳米光刻机是该公司唯一制程的量产产品。上海微电子则是国内光刻机制造技术最先进的厂商。根据上海微电子持续中标重大项目来看，采购客户涵盖长江存储、华虹半导体、中芯国际、京东方、华星光电等国内一线高科技大厂。像华虹半导体是做ic卡芯片的，使用低端90纳米光刻机完全够用，长江存储对制程要求也不高，使用上海微电子90纳米光刻机也够用了。
3. 0.1nm的光刻机
没有一纳米光刻机。
通常说纳米是芯片的栅极宽度，目前人类已经商用的芯片可以做到4纳米。而光刻机的纳米并非如此，目前最高端的荷兰阿斯麦尔euv光刻机是13.5纳米的极紫外光，像台积电、三星这样的代工厂通过先进技术，用这个波长的极紫外光去刻制更宽度小于13.5纳米的晶体管，比如5纳米、4纳米，但光刻机依然是13.5纳米的。目前人类也没能力做一纳米光刻机。
4. 0.1nm光刻机能实现什么原理
3nm光刻机生产的3 nm芯片已经达到物理极限，目前人类只能生产5nm光刻机，3nm光刻机还在临床实验当中，生产3nm光刻机还需一段路走，科技在不断进步，但1nm的光刻机很难现实。但人类科技不断进步，通过其它先进材料，也许能代替1nm光刻机的技术，我们拭目以待
5. 0.1mm的光刻机
基本被日本，美国霸占。
目前蚀刻设备精度最高的是日立。比如东丽，帝人的炭纤维，超高精密仪器，数控机床，光栅刻画机这个最牛的也是日立，刻画精度达到10000g/mm ，光刻机等等，这些是美日严格限制出口的。
一个块CPU要制造出来，需要N多设备和材料。全球前十大半导体设备生产商中，有美国企业4家，日本企业5家。
6. 0.1纳米光刻机是什么概念
光刻机波长越小分辨率越高，光刻机精度越高。
在光学成像中，分辨率受到光学衍射的限制，能够形成的最小光斑，如果想要提升（缩小）分辨率，那么就需要两点，缩小波长和增加数值孔径。同样的物理原理可以用于提升光学加工的分辨率（例如光刻）。显然缩小波长，波长越往蓝色区域甚至紫外靠拢，则分辨率越好。