1. 中国光刻机制造最新消息
答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！
2. 中国光刻机投产了吗
2019 年 4 月，武汉光电国家研究中心甘棕松团队，采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制，采用远场光学的办法，光刻出最小9纳米线宽的线段，实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。值得注意的是，这只是科研上突破9纳米，离正式投产还存在一定时间。仅就光刻机而言，应该相差3至4代，落后至少10年以上。
3. 中国光刻机量产
估计要8年，因为目前我们能量产的只有28nm光刻机，14nm光刻机2年可量产，目前光刻机的辅助部分我们已基本掌握，核心部件的攻关用8年时间是完全没有问题的。所以说如果不出意外，8年内做到7nm光刻机量产是完全没有什么问题的。
4. 中国光刻机研发最新消息
中国没有自主研发的2纳米光刻机。
全球只有四家公司能制造光刻机，分别是荷兰阿斯麦尔全球唯一高端euv光刻机，日本尼康佳能duv光刻机，中国上海微电子的duv光刻机。但是目前没有任何一家能制造2纳米光刻机。荷兰的是13.5纳米极紫外光光源的euv光刻机，三星通过技术手段使其加工芯片制程达到4纳米精度，目前为全球最高。
5. 中国首台光刻机新闻
中端光刻机投产能生产22-45纳米芯片。
光刻机领域按高中低端机型分类的话，高端机是13.5纳米极紫外光光源，用于生产14纳米以下制程的芯片。中低端机型是193纳米的深紫外光光源，通过技术手段，制程压缩到45纳米以下就是中端机型。我国上海微电子的28纳米光刻机就是我国首台中端光刻机。