1. 深紫外光刻机是什么
就是极紫外线光的光刻机，波长短
2. 深紫外光刻机原理
曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。
常见光源分为:
可见光：g线：436nm
光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。紫外光（UV），i线：365nm
深紫外光（DUV）,KrF 准分子激光：248 nm, ArF 准分子激光：193 nm
极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm
3. 深紫外光刻机 多少纳米
印度没有光刻机。光刻机涉及多学科多专业门类,印度工业基础不行,许多工业专业生产都不能完成,光刻机又要求专业高度精密先进,印度根本无法独自完成。
极紫外线光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。目前荷兰是全世界光刻机制造最领先的国家。
4. 深紫外光刻机能量产多少纳米芯片?
没有自主。
国产7nm的光刻机还没有研制成功的，能够制造7纳米芯片的光刻机就是极紫外光刻机，目前能够制造极紫外光刻机的只有一家，就是荷兰的阿斯麦公司，而且阿斯麦公司也只是一个组装公司，极紫外光刻机是一个庞大的工程，它的零件都是全球最顶尖的科技，比如美国的光源，德国的镜头，法国机械臂，英国的电动马达，都是要求非常精密的，难度很大，所以我国还没研制出来。
5. 深紫外光刻机上市公司
1 光刻机有辐射危害。
2 而光刻机大部分深紫外光波长被控制在100纳米以内,所以没有外露辐射,而高端的极紫外光波长为13.5纳米就更没有辐射危害。
3 其实,台积电用的是极紫外光刻机,可以光刻5nm的芯片。但是紫外线的波长远大于5nm,这就需要光刻机多次曝光等离子化用于改变紫外线。