1. 光刻机最新消息
华为不生产光刻机。
华为并不生产光刻机，也没有光刻机。华为是全球领先的信息与通信技术（ICT）解决方案供应商，专注于ICT领域，坚持稳健经营、持续创新、开放合作，在电信运营商、企业、终端和云计算等领域。华为以及海思涉及的是芯片的设计，而制造芯片都是找代工厂，所以华为并没有光刻机。
2. 国产光刻机最新消息
没有突破到22纳米。
国产光刻机目前能量产的制程是90nm，这是上海微电子制造的设备，该公司也是全球四家光刻机制造商之一。上海微电子公司去年28nm光刻机已经通过技术检测和验证，预计今年可以提供给采购方。而22nm这种制程的光刻机应该没有被列入该公司计划。
3. 28nm光刻机最新消息
可以生产10nm芯片。
28nm光刻机可以生产10nm芯片。在没有euv光刻机的年代，台积电利用28nm光刻机就已经能够生产7nm芯片了，所以生产10nm完全没问题。其原理大致是通过对晶圆多次曝光多次蚀刻达到更高制程。国内比如中芯国际现在也可以生产10nm芯片。
4. 荷兰光刻机最新消息
DUV光刻机的许多专利技术已经慢慢到期，也就是说，在不久之后，其他国家也能够根据相关的专利技术进行DUV光刻机的生产。因此，ASML公司必须要在专利技术到期之前赶紧发挥出这类光刻机的剩余价值。一旦专利技术到期，DUV光刻机会面临着较大的减值风险。
属于发明专利的，专利终止日期是二十年；侵没式DUV光刻机技术专利2022年—2023年到期，EUV专利技术2031年—2039年到期，专利到期后国产光刻机才会官宣。
5. 华为光刻机最新消息
这个想法是真的，但是还没实现。
一是华为通过招募光刻机人才意欲打造自研5nm光刻机，前期评估预计两年内投入量产；另一个是华为召集数万人，每天工作12到16个小时，争取两年内实现14nm光刻机。咋一听，真的很鼓舞人心！有心的网友甚至还扒出2016年华为申请的一项名为“一种光刻设备和光刻系统”的PCT专利。这让更多网友相信，华为其实早在2016年就开始研究光刻机了。
6. 量子芯片光刻机最新消息
应该说各有优势。光刻机和量子芯片的区别，一个是生产设备是制造工具，另一个是设备制造的产品。两者处于产业链不同位置。目前量子芯片还未商业化，而且还处于比较简单的集成电路状态，还未达到能够使用光刻机这类大型精密光电设备批量制造的程度。