1. 半导体光刻机
要的 目前只有荷兰能生产
2. 化合物半导体光刻机
一、晶瑞电材：
公司作为国内高新技术企业，在微电子化学品的研究开发与生产当中一直处于行业领先位置，其核心产品主要包括光刻胶、功能性材料等。
二、新莱应材：
公司的核心产品均能应用于光刻胶设备当中，其客户群体当中就含有光刻胶设备制造商。
三、芯源微：
产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备。
四、亚威股份：
公司与关联方一同出资打造威迈芯材，对韩国WIMAS已经完成了收购计划，该韩国企业主要从事的是半导体化合物的生产开发与销售。
五、华懋科技：
公司旗下持股公司徐州搏康目前为国内重点量产高端光刻胶的企业，在EUV光刻胶领域当中处于国际水平的上游层次。
六、彤程新材：
公司旗下子公司北京科华微电子作为国内仅有的一家拥有荷兰曝光机的中外合资企业，在高档光刻胶自主研发以及量产能力当中也属于国家高新技术企业。
七、苏大维格：
公司作为领先行业的微纳结构生产供应商，已经实现自主研发出光刻机设备，并成立了微纳光学的研发平台，在各类型的产品中为客户提供不同的设计与服务。
八、芯碁微装：
公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务。
九、南大光电：
公司主要核心产品为ArF光刻胶产品，不仅得到了客户的使用认证，还是国内第一只通过验证的国产ArF光刻胶产品。
3. 芯片光刻机
需要光刻机。
电脑芯片当然也需要光刻机了，电脑芯片本身也是半导体元器件，也是有硅晶圆通过光刻机制造的。不论是移动设备的芯片还是电脑端芯片都是硅基半导体，物理构造上是相同的，只不过设计架构不同而已。最大的电脑芯片制造商是美国英特尔，使用的就是荷兰阿斯麦尔公司的光刻机。
4. 中微半导体光刻机
上海微电子和中微公司区别在于它们的经营范围不同。
上海微电子比起中微半导体，上海微电子切入是被誉为半导体制造皇冠上明珠的光刻机领域。公司的600系列光刻机虽然和国际先进水平还有差距，但已可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。公司大股东是上海电气集团。
中微公司主要从事半导体设备的制造、销售业务。
5. 半导体光刻机上市公司
最紧密的光刻机供应商是荷兰的ASML,全球绝大多数的半导体生产商都向ASML采购TWINSCAN机型
6. 半导体蚀刻设备
叫半导体工艺。
蚀刻和光刻合起来叫半导体工艺，当然只是半导体工艺中的一部分。半导体工艺大概有如下：蚀刻工艺、光刻工艺、掺杂工艺、薄膜制备工艺、籽晶熔接工艺、放肩工艺、收晶、等径生长、晶圆制造、光学显影等工艺。这些工艺的排序是按工序占比排列，其中蚀刻工艺和光刻工艺的占比最大。