1. 刻蚀机能代替光刻机吗
暂时没有。
光刻技术是指集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。
随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。
2. 刻蚀机能代替光刻机吗为什么
明显不相同
光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。
“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。
“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。
3. 代替光刻机的技术
不能。
激光是原子中的电子吸收能量后从低能级跃迁到高能级，再从高能级回落到低能级的时候，所释放的能量。理论上激光可以直接制作光刻机，但是目前直接制造的激光波长大概在400-700纳米，制造现代光刻机需要更小波长。比如euv光刻机是利用CO2激光轰击锡滴产生13.5纳米极紫外光。这样波长的极紫外光才能保证高端芯片制造。所以激光不能直接造光刻机。
4. 刻蚀机能代替光刻机吗知乎
光刻机比蚀刻机贵的最大原因肯定是成本高。
阿斯麦尔的极紫外光光刻机大约有十万个零部件，重达180吨，就连组装调试都要按年算。而最先进的中微半导体生产的蚀刻机就要轻很多，仅几吨重。一个负责非常复杂的雕刻，另一个负责冲洗，就技术含量来说也相差很大，所以价格上阿斯麦尔高端光刻机卖十亿多，而蚀刻机卖两千万。
5. 刻蚀机与光刻机哪个难做
中国光刻机是很落后的为什么这么说
一、中国无法制作高端光刻机
二、华为高端芯片只能选择台积电代工就能够看出中国芯片加工产业的落后