1. 1毫米光刻机图纸
EUV光刻机的技术其实在很多年前就开始研究了，先后一共加入了40多个国家和地区进行技术上的研究。最早开始的是美国，在1996年，美国展开了电子束和软X射线光刻技术的探索，但是在当时并没有想作用到商业中去，只是用作研究所以及相关大学的科研。在97年的时候，美国的多家科技企业联合进行EUV技术的开发。在99年对EUV光刻机的基础研究已经被ITRS确认为新一代光刻机发展的方向及目标，这也就说明EUV光刻机在未来的地位，以及谁先掌握技术谁就会掌握新一代芯片生产的主动权。
在当时，半导体被四分天下，美国借此机会巩固自己的领导地位；欧洲在当时半导体行业节节衰退，EUV光刻机技术也成为了拯救欧洲的救命稻草；韩国和日本也是开始疯狂出手，几乎是不惜一切代价想去占领制高点。美国在这次的技术研究上，高等院学校、高科技企业以及各个研究院，总共加起来投入了有50多个单位。欧洲更是下了血本，有35国家参与，共计110个研究单位。日本就比较的悲剧性，1998年的时候就开始断断续续的研究光刻机技术，但是到了2002年才专心投入研究。韩国整合了国内的科研领域比较靠前的企业和高校一起进行。
EUV光刻机的技术含量可不是说着玩的，这么多的国家在研究的道路上可以说是非常的艰难，从基础到技术开发再到芯片集成最后成型，很没有所谓的近路可以抄袭，只能一步一个脚印慢慢的摸索。在攻克难关的过程中，第一关光源的突破就让所有的研究者吃尽了苦头。EUV光源有两种，一种是LPP光源，另一种是DPP光源，这两种光源无论怎么利用，出现的问题都是同一个，都是转化利用率太低。到2005年，还没有适合为EUV光刻机提供41KW级别的激光源，其主要的目的就是提高利用率。
EUV光刻机发展比较缓慢还有一部分原因来自市场的局限性。目前EUV光刻机的市场十分有限，并且用的企业并不多，可以说是屈指可数，一年的出货量虽然说再增加，但是也都是在20-50之间徘徊。ASML公司出售的EUV光刻机价格也是非常的昂贵，毕竟研发成本摆在那里，以目前的出货速度研发的费用都很难收回。为了解决无法回收高额的研发费用，专家们也是纷纷开始分析商业模式转化，并且在考虑如何有效地将收益最大化，并对EUV光刻机的前景做出了高度的认可，这也给ASML公司提供了充足的机会。
EUV光刻机技术发展到现在，最成功的就是美国一派，其他的国家只是跟着“打酱油”，EUV光刻机技术带来的收益是渺小的，但是它会带动整个国家半导体行业的发展，这也是为什么这么多家国家争抢的原因。原子弹研发很难，但是很多国家都有，EUV光刻机技术更难，现在只有一家企业在出售，可见EUV光刻机的研发技术远远超过了原子弹。ASML公司曾经表示，就算把EUV光刻机的图纸公之于众，其他的国家也没有办法进行山寨，也看得出ASML公司对此还是比较有自信的。
2. 1微米光刻机
光刻机被形容为皇冠上的明珠、现代光学工业之花。
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。
位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
3. 光刻机最新几毫米
7纳米等于0.0000007毫米
4. 光刻机制造图纸
高三学生研究出光刻机肯定是假的喽，高三学生研究怎么玩手机还差不多。
光刻机是半导体工业皇冠上的明珠，绝对的高科技核心技术。光刻机最大的研制难度在于精度，任何一个细微的差错都会导致光刻机运行出现问题。就会产生废品，成本就会飙升。
日本技术很牛，精度也只能到50纳米，而阿斯迈尔公司的2纳米光刻机，已经投入使用了。
所以，高三学生研制出光刻机。就是个笑话。
5. 0.1毫米光刻机
EUV极紫外光刻（Extreme Ultra-Violet）是一种使用极紫外（EUV）波长的新一代光刻技术，其波长为13.5纳米。由于光刻精度是几纳米，EUV对光的集中度要求极高，相当于拿个手电照到月球光斑不超过一枚硬币。反射的镜子要求长30cm起伏不到0.3nm，相当于北京到上海的铁轨起伏不超过1毫米。一台EUV光刻机重达180吨，超过10万个零件，需要40个集装箱运输，安装调试要超过一年时间。
6. 1nm光刻机
蔡司光刻机镜头最主要的是打磨。拥有高数值孔径的光学镜头是决定光刻机的分辨率和阈值误差能力。而分辨率和套值误差能力对于一台光刻机具有至关重要的重要性。而世界上最为先进的EUV极紫外光刻机唯一可以使用的镜头就是由蔡司公司生产的镜头。蔡司光刻机中每一块透镜的位置误差都必须小于1nm，同时还要能尽量消除光损失产生的热量。
在工艺方面，光刻机所要求的镜面光洁度非常高，需要采用精度最高的打磨机和最细的镜头磨料，还需要顶级的计算机数控光学表面成形技术（CCOS）相关的技术工人。在光学镜头的生产工序中，仅CCOS的抛光一项，就有小磨头抛光、应力盘抛光、磁流变抛光、离子束抛光等超精密抛光等高难度工序，若想达成实属不易。