1. 1nm的光刻机什么概念
指的是可以做出来的晶体管的最小尺寸，1nm等于1米的十亿分之一
2. 0.1nm光刻机是什么概念
没有01nm光刻机。
目前光刻机没有01nm这种规格的，最高端光刻机是荷兰阿斯麦尔公司的极紫外光光源光刻机，其光源波长为13.5nm，这种光源目前是商用可量产光刻机最顶级规格了。如果要达到01或0.1nm那就要改成其他光源了，比如X射线理论上可以达到最小0.1nm，但是该种光源目前无法应用于光刻机。
3. 光刻机多少纳米是什么意思
3nm是极限，一个铜原子的直径就是2个多纳米。
首先我们要知道我们平常所说的几NM芯片是代表芯片里导线的宽度。因为导线越窄，那么在单位面积上能集成的元器件越多，所以我们用多少纳米来反应芯片的先进程度。而现在的芯片是用铜基带，也就是用铜做为芯片内导线。而一个铜原子的直径就是2个多纳米。所以光刻机只能到3纳米。如果要突破3纳米，那就只有放弃现有的基带系统，选用直径更小的元素。
4. 1nm光刻技术
光刻机的原理是利用光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，使光罩上的图形复印到薄片上，从而让薄片具有电子线路图的作用。
光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。
光刻机就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形。
光刻是集成电路最重要的加工工艺，如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。
5. 1nm光刻机是什么
对于发布的高通888芯片，从高通的口中我们可以得知，今年的高通骁龙888采用的是三星的5nm工艺，而并不是台积电的5nm工艺。对于这种选择，高通也是道出了真相，根据高通高级副总裁Alex Katouzian表示，骁龙888这款芯片不管是从设计需求而言还是代工进度而言，三星都是最适合的人选。
其实说到这里，很多人对于高通的说法也都有一些其他看法。因为我们都知道，虽然台积电不能给华为代工芯片，从而空缺了部分5nm芯片的产能，但是空缺的部分产能几乎都让苹果包揽，所以高通想要趁这个时候去抢占5nm产能，几乎很难实现，这才是导致高通选择三星的主要原因。
三星自降身段，为了追赶台积电，可谓是煞费苦心
而随后一则消息的出现则是证明了一些人的猜想。根据芯片行业产业链的消息人员表示，三星为了扩大自己在芯片代工市场当中的份额，选择缩减成本，降低了在芯片代工方面的代工报价情况，因为这种行为能够让自己吸引更多的代工订单，高通骁龙888芯片的订单其中有一部分原因就是这么得到的。
三星作为世界知名的晶圆体代工厂，虽然仅次于台积电，但是三星的市场份额与台积电相差甚远。尽管技术研发与制程工艺节奏与台积电进度相差不大，但二者其实还是存在着比较大的差距。
外加上台积电与光刻机巨头ASML的合作关系一直都非常密切，台积电的EUV光刻机进口数量也一直领先于三星。种种情况对三星来说都极为不利，所以如果自己今年无法拿下高通订单的话，自己的差距将再一次与台积电拉开。所以三星只能选择自降身段，利用相对于台积电比较优惠的价格来吸引客户合作，这一点可能台积电也没有料到。可以看出，芯片巨头三星为了追赶台积电，可谓是煞费苦心。
高通误打误撞，芯片行业将迎“变革”
不过对于高通来说，此次选择三星作为代工厂可能也比较幸运，因为从目前苹果和华为的5nm芯片表现来看的话，今年台积电的5nm工艺存在着一些问题。如果使用了三星5nm工艺的骁龙888机型在未来的市场表现效果不错的话，或许能够帮助提升三星在芯片代工方面的地位和能力。
随着摩尔定律的极限逐渐逼近，现阶段三星和台积电之间的竞争已经再上一个台阶，随着ASML已经完成了1nm光刻机的设计之后，意味着1nm芯片未来距离我们也将不再遥远。而到了1nm技术之后，或许也会出现替代传统硅基芯片的技术，行业也终将会迎来一次“变革”。
6. 1um光刻机
光刻机分辨率=k1*λ/NA
k1是常数，不同的光刻机k1不同，λ指的是光源波长，NA是物镜的数值孔径，所以光刻机的分辨率就取决于光源波长及物镜的数值孔径，波长越短越好，NA越大越好，这样光刻机分辨率就越高，制程工艺越先进。
7. 1nm光刻机是干什么用的
理论上1纳米芯片运算能力是目前5纳米芯片的十倍以上。
目前全球能够制造的最高制程芯片为3纳米，其内部每平方毫米内硅晶体管数量高达3.3亿只左右，而2纳米的话每平方毫米大约有5亿只，而要达到1纳米的话每平方毫米将高达10亿只硅晶体管。不过这是理论值，以目前的光刻机来说不可能达到1纳米。以5纳米100平方毫米100亿晶体管来说，1纳米的1000亿晶体管，其运算能力将是10倍