1. 全世界光刻机排名前十
世界没有十大光刻机国，现在全世界能够生产光科技的国家只有三个！
分别是荷兰，日本和中国，能够生产最顶尖的5纳米euv光刻机的只有荷兰阿斯麦一家！
另外日本的尼康和佳能，还有中国的上海微电子厂，能够生产最好的光刻机，也就是只能达到28纳米！
2. 全世界光刻机排名前十的公司
1、大族激光（002008），最新股价39.35元，总市值419.89亿：2021年6月17日公司在互动平台称：公司在研光刻机项目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用，今年有望实现小批量销售。
2、张江高科（600895），最新股价16.40元，总市值253.99亿：2021年3月，公司在互动平台表示，上海张江浩成创业投资有限公司2021年投资了上海微电子装备有限公司22，345万元，投资比例为10.779%。
3、晶方科技（603005），最新股价55.50元，总市值188.34亿：2021年6月，公司在互动平台表示，荷兰光刻机制造商ASML为公司参与并购的荷兰Anteryon公司的最主要客户之一。Anteryon为全球同时拥有混合镜头、晶圆级微型光学器件工艺技术设计、特性材料及量产能力的技术创新公司，其产品可广泛应用于半导体精密设备、工业自动化、汽车、安防、3D传感器为代表的消费类电子等应用领域。
4、赛微电子（300456），最新股价21.39元，总市值136.71亿：2021年6月，公司在互动易平台披露：公司一直为全球光刻机巨头厂商提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务。ASML为公司商业合作伙伴。公司瑞典与北京分别拥有数台光刻机；瑞典产线2021-2021年产能利用率一直保持在80%以上的高水平
5、万业企业（600641），最新股价13.92元，总市值133.34亿：全资子公司凯世通采取“领先一步”的策略、采用有国际竞争力的设计理念，着力研制16纳米及以下制程的FinFET集成电路离子注入机，并针对研制低能大束流离子注入机所需要解决的关键技术和技术难点，建立起相应的研发平台、相关核心关键技术及工艺的研究参数数据库和性能检测规范标准。2021年凯世通的低能大束流离子注入机迁机成功，顺利进入离子注入晶圆验证阶段。参股公司上海半导体装备材料基金持有华卓精科2.08%股权。
6、上海新阳（300236），最新股价41.58元，总市值120.85亿：2021年2月，公司在互动易平台表示，中芯国际是公司的主要客户之一。2021年2月，公司在互动易平台披露，公司KRF光刻机能支持96层3DNAND用光刻胶研究，及250nm、130nm工艺制程逻辑电路用光刻胶研究。公司正在加快开发第三大核心技术——光刻技术，在集成电路制造用ArF干法、KrF厚膜胶、I线等高端光刻胶领域已有重大突破。同时，积极布局半导体硅片、半导体湿法工艺设备、平板液晶显示用光刻胶等业务领域。
7、南大光电（300346），最新股价28.13元，总市值114.46亿：超募资金投资”ArF光刻胶产品的开发与产业化”项目。
8、飞凯材料（300398），最新股价15.60元，总市值80.47亿：公司从事PCB光刻胶专用化学品。
9、*ST胜利（002426），最新股价2.08元，总市值71.58亿：胜利精密计划募资不超过20亿元，投向光刻机产业化。
10、华特气体（688268），最新股价57.49元，总市值68.99亿：华特气体是特种气体龙头企业。
3. 顶级光刻机全球有几台
因此EUV光刻机的生产难度也非常高，产能十分有限。据悉到2020年底，ASML累计的EUV光刻机出货量仅有100台，这个数量确实让人觉得有些不可思议。
因为生产难度极高、体积巨大、零件众多等原因，EUV光刻机的价格也是相当的昂贵，一台光刻机的价格就高达1.48亿欧元，折合人民币约11.7亿。但即便如此，依然被三星、台积电等公司抢着买。
4. 中国光刻机世界排名
制造量排名第一的是荷兰阿斯麦尔。
世界各国光刻机光刻机制造量的排名前荷兰阿斯麦尔公司、日本尼康和佳能、上海微电子。其中荷兰阿斯麦尔垄断euv光刻机市场，年制造量目前大约70台，duv光刻机大约150台，全线产品市场占有率超过90%。而日本尼康、佳能和上海微电子应该在10台以内。
5. 世界十大光刻机公司
第一，五轴联动叶片加工中心
就其重要性而言，五轴联动叶片加工中心一点不亚于芯片制造的光刻机，因为这台设备是用来加工航空发动机，汽轮机，鼓风机的核心部件-叶片。叶片是航发的关键零件，外形和内腔复杂，承受1700摄氏度的高温，并且大量使用钛合金等高强度的复合材料，加工难度之大可想而知。
目前我国高端的五轴联动叶片加工中心依赖进口，包括在国防领域，我国就引进了瑞士斯达拉格公司的产品。当然作为这一领域的佼佼者，包括美国的F35战机也在使用斯达拉格机床。除了瑞士企业，这种设备的主要生产国还包括德国（哈米勒），意大利（法拉利）等。
第二，工业机器人减速器
减速器是工业机器人（关节）的核心零部件之一，能生产工业机器人的国家很多，但是精密减速器却主要掌握在日本企业手中，在这一领域有两家企业，一个是纳博特斯克，主要生产RV减速器；一个是哈默纳科，以谐波减速器为主。RV减速器一般主要拥有基座，肩部等负载重部位，而谐波减速器主要用于小臂，腕部等部位。
纳博特斯克的前身是帝人精机，纳博克，是世界最大精密减速机制造商，占据大约六成的市场份额。目前全球关节机器人企业包括德国，瑞士的企业在内使用的减速机大都来自日本企业。
第三，半导体设备
提到半导体设备，大家首先会想到光刻机。而实际上半导体设备有非常多的种类，包括刻蚀机，薄膜设备，测试设备和清洗设备等，像全球最大的半导体设备企业美国应用材料公司生产除光刻机和清洗设备外几乎所有的半导体设备，而且这家企业在薄膜PVD设备领域一家独大，其地位并不比光刻机企业差。就整体市场价值而言，刻蚀机，光刻机，薄膜设备是价值最高的三大半导体设备。除光刻机外，美国企业在其它几种设备方面占据优势。
半导体设备技术难度非常大，像等离子刻蚀机加工的细孔只有头发丝的万分之一，并且对稳定性和洁净度的要求极高。在半导体设备中，还有一种用量很大的设备-磁悬浮分子泵，主要用来获得真空，目前能生产这种设备的企业只有少数几家，包括英国的爱德华，德国的莱宝，日本的岛津制作所等。
第四，10nm以下半导体制程
10nm以下半导体制程工艺对于大多数晶圆制造企业来说就是禁区，宣布停止研发更先进制程的企业不在少数。那么半导体制程工艺到底有多难？以5nm为例，光是工艺步骤就有1000个，并且每一个步骤的合格率要达到99.99%，而且工艺越先进，需要集成相关学科领域的技术就越多。目前掌握10nm以下工艺的企业仅有三家，包括台积电，三星电子和英特尔。
第五，大型高精度衍射光栅刻划机
光栅机是光学领域最重要的母机，被称为"精密机械之王"。光栅的主要作用在于光谱分析，通过它可以获得物质的成分信息，广泛应用于信息科学，物理学，天文以及军事等领域。举一个例子，油漆有不同的颜色，一般人能分辨出的变化可能有几十种，而光栅则能分辨出超过上亿种颜色变化。目前能生产这一设备的只有美国，日本和中国等少数几个国家。
第六，重离子治疗设备
作为国际尖端的放射治疗技术，重离子治疗设备被誉为重大科学装置，全球最大最复杂的一台设备重达670吨。重离子治疗设备体积庞大（包括100多米长/60米宽的加速器），涉及到加速器，生物学，影像学，电子，核物理等众多前沿学科，被认为是最先进的肿瘤治疗系统。目前全球运营的（包括在建）医用重离子加速器仅有16台，大部分位于日本及欧洲。而重离子（含质子）治疗设备企业包括西门子，Varion，日本的东芝，三菱电机，住友，日立等。
第七，高端磁共振设备
也叫医用磁共振成像设备，主要用于血管造影，心脏病学检查等。目前高端磁共振设备主要掌握在美国通用，德国西门子，荷兰飞利浦三家企业手中。磁共振设备同样涉及到生物化学，IT技术，传感器，光学，流体力学等许多交叉学科，对磁场技术，射频技术，成像技术等有非常高的要求，是对一家企业的综合工业能力的考验，也正因为如此，该领域的主导企业大都是一些业务横跨多个行业的综合性工业巨头，其中被称为GPS的三大企业都是拥有百年以上历史。
第八，燃气轮机
主要应用于电力设备，工业，航母等领域，其工作原理类似航空发动机，正是由于其巨大的工业，军事价值，因此重型燃气轮机也被视为大国重器，像西门子的一台超级燃气轮机的发电量，可以满足一个中等城市的用电需求。目前该领域的三大企业分别是美国通用，德国西门子和日本三菱重工（如今的三菱电力）。重型燃气轮机的核心部件包括燃烧室，压气机，高温透平叶片。
第九，大推力军用涡扇发动机
相比民用发动机，掌握大推力的军用涡扇发动机技术的国家更少，就目前来看，也仅有美国，俄罗斯和中国。大推力军用涡扇发动机通常是小涵道比，加力推力超过10吨的涡轮风扇发动机，主要使用在重型战机，单发中型战机；而大涵道比发动机通常使用在运输机，轰炸机上，关系到国家的战略威慑力和民用航空的发展。美国最先进的F135发动机（配备于F35战机），最大推力在19-20吨，生产商为普惠发动机公司。俄罗斯主要的军用涡扇发动机企业包括土星公司等。
第十，超精密轴承/高端轴承
轴承的种类非常多，被称为"高端产品的关节"，有航空航天领域的特种轴承，有用于精密机床主轴产品的超精密轴承（P4级以上），有重型机械用轴承，有高铁轴承，有半导体加工设备轴承等。作为一个基础性行业，轴承在很多高科技领域发挥着重要影响，像航空发动机的主轴承就是航发的关键部件之一，对精度，性能，寿命，可靠性有着极高要求。目前高端轴承生产企业主要集中在德国，美国，瑞典以及日本等国。
6. 目前世界光刻机的最高级别
光刻机纳米越低越好。越低表示分辨率越高越精确。
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem。
低纳米光刻机，是分辨率较高，精确到纳米的光刻机。2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。