一、中国首台光刻机成功交付
答：中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！
二、中国第二台光刻机交货
瓦森纳协定主要针对中国（大陆）及朝鲜等国。如荷兰拒绝向ASML签发出口许可证，导致中芯国际订购的EUV光刻机无法交货，似乎也正是受到了美国及《瓦森纳协定》的影响。
如果美国、日本、荷兰等《瓦森纳协定》缔约国进一步扩大对于中国的半导体相关的产品的出口管制，将会影响中国半导体产业的发展。
三、光刻机 交付
根据其官网介绍，当前最先进的光刻机当属600系列光刻机，最高的工艺制程能够达到90nm。通过对比不难发现，国内光刻机与ASML公司之间差距巨大。据相关消息透露，2021年至2022年将会交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。
光刻机内部涉及精密元器件较多，即便是ASML公司也是通过全球采购来解决该问题，例如美国的光源，德国的镜头等。短期内，国内光刻机企业想要追赶上ASML公司并不现实。国产光刻机短期内无法赶超，芯片代工企业能否提供助力呢？
四、中国首个光刻机
25日，清华大学发布消息称，以该校工程物理系教授唐传祥为首的研究团队研发了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”（SSMB），并完成了首个原理验证实验，该成果发表在世界著名科学杂志《自然》上。SSMB光源未来有望应用于EUV光刻和角分辨光电子能谱学等领域。这是我国在EUV光刻机光源研发方面取得的重大突破。
五、唯一一台光刻机
三安光电不能生产光刻机。
三安光电股份有限公司是国家发改委批准的“国家高技术产业化示范工程”、国家科技部及信息产业部认定的“半导体照明工程龙头企业”，主要从事全色系超高亮度LED外延片、芯片、Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料、微波通讯集成电路与功率器件、光通讯元器件等的研发、生产与销售。
所以三安光电只是生产芯片，不生产光刻机整机以及光刻机零部件。目前国内唯一生产光刻机的企业是上海微电子，别无他家。